基于全息光子晶体的光滤波器设计
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·光子晶体概述 | 第8-11页 |
| ·光子晶体的概念 | 第8-9页 |
| ·光子晶体性质 | 第9-11页 |
| ·自然界中的光子晶体 | 第11页 |
| ·现阶段主要的滤波技术 | 第11-12页 |
| ·现有的常见光子晶体制备技术 | 第12-14页 |
| ·光子晶体的应用领域 | 第14-15页 |
| ·光子晶体光纤 | 第14页 |
| ·低阈值的激光器 | 第14页 |
| ·高反射率的反射镜 | 第14页 |
| ·光滤波器 | 第14页 |
| ·光子晶体振荡器 | 第14-15页 |
| ·光子晶体研究现状及发展前景 | 第15页 |
| ·本论文的内容与结构 | 第15-17页 |
| 第二章 光子晶体的理论计算分析方法 | 第17-27页 |
| ·光子晶体的数学原理 | 第17-20页 |
| ·数学理论 | 第17-19页 |
| ·光子禁带 | 第19-20页 |
| ·平面波展开法 | 第20-24页 |
| ·有限时域差分法(FDTD) | 第24-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 光子晶体结构的滤波仿真 | 第27-42页 |
| ·光子晶体各结构参数对滤波范围的影响 | 第27-31页 |
| ·在光子晶体结构中引入点缺陷实现滤波功能 | 第31-32页 |
| ·点缺陷的半径对缺陷态的影响 | 第31-32页 |
| ·点缺陷的介电常数对三角形光子晶体滤波范围的影响 | 第32页 |
| ·点缺陷的介质位置对三角形光子晶体滤波范围的影响 | 第32页 |
| ·线缺陷对二维三角形光子晶体能带结构的影响 | 第32页 |
| ·对引入缺陷结构的光子晶体进行电磁场仿真 | 第32-33页 |
| ·激光干涉制造光子晶体结构及其缺陷的仿真 | 第33-40页 |
| ·入射光的入射角度和波长对晶格常数的影响 | 第34-37页 |
| ·干涉光束各参数的设定 | 第37-38页 |
| ·制造缺陷的干涉光束各参数的设定 | 第38-40页 |
| ·其它成果 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 光子晶体滤波器实验 | 第42-52页 |
| ·激光光刻干涉图形的仿真 | 第42-44页 |
| ·搭建曝光光路 | 第44-45页 |
| ·光刻胶的选择和甩胶工艺 | 第45-46页 |
| ·激光干涉曝光的实验步骤 | 第46-47页 |
| ·大深宽比光子晶体的制作 | 第47-50页 |
| ·硅的各向异性刻蚀 | 第47-48页 |
| ·诱导坑的结构特点 | 第48-49页 |
| ·硅的电化学腐蚀原理 | 第49-50页 |
| ·硅/HF系统的电化学刻蚀过程 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-54页 |
| ·总结 | 第52-53页 |
| ·展望 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
