虚拟掩模光脱保护法制备高密度肽核酸芯片
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·肽核酸的研究背景及意义 | 第8-10页 |
| ·高密度肽核酸芯片的制备方案 | 第10-11页 |
| ·本文的结构安排 | 第11-12页 |
| 第二章 合成肽核酸芯片的软硬件系统 | 第12-18页 |
| ·虚拟掩模光刻系统 | 第12-13页 |
| ·虚拟掩模光刻系统的控制软件 | 第13-14页 |
| ·虚拟掩模光刻系统的调试 | 第14-17页 |
| ·虚拟掩模光刻系统的光强调节 | 第14-15页 |
| ·虚拟掩模光刻系统的焦距调节 | 第15-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第三章 超序列研究及虚拟掩模图的生成 | 第18-30页 |
| ·超序列研究 | 第18-23页 |
| ·光脱保护法合成肽核酸芯片的步骤 | 第18页 |
| ·公共超序列的算法 | 第18-21页 |
| ·翻转算法的实验 | 第21-23页 |
| ·芯片合成中的错配风险的降低 | 第23-28页 |
| ·DMD衍射现象的分析 | 第24页 |
| ·单碱基插入的影响与插入位置的关系 | 第24-25页 |
| ·碱基插入风险的评价模型 | 第25页 |
| ·降低碱基插入风险的方法 | 第25-28页 |
| ·虚拟掩模图的生成 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第四章 肽核酸单体的合成及表征 | 第30-41页 |
| ·PNA单体的合成路线 | 第30-33页 |
| ·PNA单体的合成实验 | 第33-37页 |
| ·四种PNA单体的核磁表征 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 肽核酸芯片的制备 | 第41-51页 |
| ·玻片的修饰 | 第41-42页 |
| ·载玻片的氨基化 | 第41页 |
| ·连接手臂分子和光敏保护基团 | 第41-42页 |
| ·光脱保护实验条件的探索 | 第42-48页 |
| ·光脱保护效率的检测方法 | 第42-43页 |
| ·光脱保护条件的探索 | 第43-48页 |
| ·PNA芯片的合成 | 第48-50页 |
| ·偶联剂的选择 | 第48-49页 |
| ·PNA芯片的原位合成及检测 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第六章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 攻读学位期间的主要研究成果 | 第60页 |
