| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·硅系太阳能电池的研究历史 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池的原理 | 第10页 |
| ·非晶硅和纳米晶硅的结构特性 | 第10-11页 |
| ·硅基薄膜的制备技术 | 第11-13页 |
| ·本文主要工作 | 第13-14页 |
| 第2章 实验原理及技术 | 第14-21页 |
| ·纳米硅薄膜的生长机制 | 第14-15页 |
| ·实验技术 | 第15-17页 |
| ·螺旋波等离子体增强化学气相沉积(HWP—CVD)实验装置 | 第15-16页 |
| ·衬底处理 | 第16-17页 |
| ·薄膜的形貌和结构分析技术 | 第17-21页 |
| ·拉曼散射谱(Raman) | 第17页 |
| ·傅里叶变换红外吸收谱(FTIR) | 第17-18页 |
| ·原子粒显微镜(AFM) | 第18-19页 |
| ·紫外-可见透射反射谱(UV-VIS Transmission and Reflection) | 第19-21页 |
| 第3章 不同氢稀释纳米硅薄膜的微结构及能带特性分析 | 第21-31页 |
| ·纳米硅样品的制备条件 | 第21页 |
| ·不同氢稀释样品的拉曼表征 | 第21-24页 |
| ·不同氢稀释样品的红外表征 | 第24-28页 |
| ·不同配比样品的能带特性 | 第28-29页 |
| ·不同氢稀释样品的形貌表征 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 A-SI:H/NC-SI:H异质结薄膜的微结构和能带特性分析 | 第31-38页 |
| ·不同厚度P层制备条件 | 第31页 |
| ·薄膜的拉曼光谱分析 | 第31-34页 |
| ·薄膜的AFM形貌表征 | 第34-35页 |
| ·薄膜的红外光谱分析 | 第35-36页 |
| ·不同样品的能带特性 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第5章 氢化非晶硅多层薄膜的微观结构和能带特性研究 | 第38-44页 |
| ·多层膜的拉曼 | 第38-40页 |
| ·多层薄膜的红外表征 | 第40-41页 |
| ·多层薄膜的形貌分析 | 第41-42页 |
| ·紫外可见吸收谱分析 | 第42-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 结束语 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
