| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·Cr-Si系硅化物薄膜在微电子技术中的应用 | 第9-10页 |
| ·Cr-Si系硅化物薄膜的研究与发展现状 | 第10-11页 |
| ·Cr-Si系硅化物薄膜的制备技术 | 第11-13页 |
| ·Cr-Si系硅化物薄膜的电学性质及其影响因素 | 第13-14页 |
| ·环境介质对功能薄膜材料结构与性能的影响研究 | 第14-17页 |
| ·不同环境介质中薄膜腐蚀性能的研究意义及现状 | 第14-16页 |
| ·薄膜腐蚀性能的检测表征方法 | 第16-17页 |
| ·本论文的选题背景 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 实验方法 | 第19-25页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al电阻薄膜的制备 | 第19-21页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al硅化物合金靶材的制备 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射法制备Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al薄膜 | 第20-21页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al电阻薄膜腐蚀试样的制备 | 第21-22页 |
| ·相对电阻变化方法检测薄膜腐蚀性能 | 第22-24页 |
| ·薄膜腐蚀实验过程 | 第24页 |
| ·薄膜腐蚀前后表征方法 | 第24-25页 |
| 第三章 Cr-Si-Ni薄膜在不同酸性环境介质中的电学稳定性及影响机理 | 第25-42页 |
| ·Cr-Si-Ni薄膜在HCI溶液中的电学稳定性及腐蚀机理 | 第25-29页 |
| ·薄膜在HCl溶液中的相对电阻变化 | 第25-27页 |
| ·薄膜在HCl溶液中的腐蚀机理 | 第27-29页 |
| ·Cr-Si-Ni薄膜在H_2SO_4溶液中的电学稳定性及腐蚀机理 | 第29-33页 |
| ·薄膜在H_2SO_4溶液中的相对电阻变化 | 第29-31页 |
| ·薄膜在H_2SO_4溶液中的腐蚀机理 | 第31-33页 |
| ·Cr-Si-Ni薄膜在HNO_3溶液中的电学稳定性及腐蚀机理 | 第33-36页 |
| ·薄膜在HNO_3溶液中的相对电阻变化 | 第33-35页 |
| ·薄膜在HNO_3溶液中的腐蚀机理 | 第35-36页 |
| ·不同酸性环境介质对Cr-Si-Ni薄膜电学稳定性的影响 | 第36-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在酸性环境中电学稳定性的影响及机理 | 第42-57页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在HCl溶液中的电学稳定性的影响 | 第42-46页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al薄膜在HCl溶液中的相对电阻变化 | 第42-44页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在HCl溶液中电学稳定性的影响机理 | 第44-46页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在H_2SO_4溶液中的电学稳定性的影响 | 第46-49页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al薄膜在H_2SO_4溶液中的相对电阻变化 | 第46-48页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在H_2SO_4溶液中电学稳定性的影响机理 | 第48-49页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在HNO_3溶液中的电学稳定性的影响 | 第49-51页 |
| ·Cr-Si-Ni和Cr-Si-Ni-Al薄膜在HNO_3溶液中的相对电阻变化 | 第49-50页 |
| ·Al元素对Cr-Si-Ni薄膜在HNO_3溶液中电学稳定性的影响机理 | 第50-51页 |
| ·不同酸性环境介质对Cr-Si-Ni-Al薄膜电学稳定性的影响 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录A (攻读硕士学位期间发表的学术论文) | 第66页 |
