| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-24页 |
| ·偏压辅助等离子体技术 | 第13-18页 |
| ·等离子体工艺过程中的偏压技术 | 第13-15页 |
| ·偏压辅助等离子体技术应用 | 第15页 |
| ·偏压辅助等离子体技术在功能薄膜特征表面制造中的应用 | 第15-17页 |
| ·偏压辅助等离子体基本过程 | 第17-18页 |
| ·偏压辅助ECR微波等离子体技术 | 第18-22页 |
| ·偏压辅助ECR微波等离子体的特点 | 第18-19页 |
| ·偏压辅助ECR微波等离子体技术研究现状 | 第19-22页 |
| ·本论文的主要工作 | 第22-24页 |
| 第2章 实验装置及方法 | 第24-39页 |
| ·实验装置介绍 | 第24-29页 |
| ·电子回旋共振(ECR)微波等离子体装置 | 第24-28页 |
| ·热丝化学气相沉积(HFCVD)装置 | 第28-29页 |
| ·等离子体诊断方法 | 第29-38页 |
| ·静电探针 | 第29-36页 |
| ·发射光谱 | 第36-38页 |
| ·常用结构分析方法 | 第38-39页 |
| ·拉曼光谱 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| 第3章 ECR等离子体与直流偏压相互作用及表面制造 | 第39-54页 |
| ·ECR微波等离子体源特征参数 | 第39-43页 |
| ·氩等离子体特性诊断 | 第39-41页 |
| ·几种气体放电的比较 | 第41-43页 |
| ·ECR/DC等离子体特性及效应 | 第43-52页 |
| ·实验 | 第44页 |
| ·基底直流偏压的影响 | 第44-48页 |
| ·微波功率的影响 | 第48-50页 |
| ·气压的影响 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 ECR/RF等离子体特性及效应 | 第54-81页 |
| ·ECR/RF等离子体特性 | 第54-68页 |
| ·实验 | 第54-56页 |
| ·放电模式 | 第56-58页 |
| ·两种基底构型的比较 | 第58-60页 |
| ·放电气体的比较 | 第60-65页 |
| ·射频频率的比较 | 第65-68页 |
| ·ECR/RF等离子体金刚石刻蚀研究 | 第68-79页 |
| ·发射光谱诊断 | 第68-72页 |
| ·实验 | 第72-73页 |
| ·基底直流自偏压的影响 | 第73-75页 |
| ·射频偏压频率的影响 | 第75-77页 |
| ·氧/氪混合ECR/RF等离子体 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 第5章 ECR微波等离子体数值模拟 | 第81-93页 |
| ·ECR微波等离子体物理分析 | 第81-82页 |
| ·数学模型 | 第82-86页 |
| ·离子的粒子模型 | 第82-83页 |
| ·电子的流体模型 | 第83-85页 |
| ·边界条件 | 第85-86页 |
| ·数值模拟结果 | 第86-92页 |
| ·ECR微波等离子体源的数值模拟 | 第86-90页 |
| ·射频偏压辅助ECR微波等离子体的数值模拟 | 第90-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 第6章 偏压型热丝直流等离子体金刚石特征表面制造 | 第93-107页 |
| ·负偏压辅助热丝直流等离子体 | 第93-99页 |
| ·金刚石/钼复合衬底的应用 | 第93-94页 |
| ·实验 | 第94-95页 |
| ·离子轰击时间的影响 | 第95-98页 |
| ·基底温度的影响 | 第98-99页 |
| ·正偏压辅助热丝直流等离子体 | 第99-106页 |
| ·实验 | 第100-103页 |
| ·基底效应的影响 | 第103页 |
| ·等离子体气相环境的影响 | 第103-105页 |
| ·金刚石外延生长面的光致发光研究 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 第7章 总结与展望 | 第107-109页 |
| ·本论文的主要工作 | 第107-108页 |
| ·进一步的研究方向 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第114页 |