| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 综述部分 | 第11-41页 |
| 第一章 稀土材料的研究概述 | 第13-21页 |
| ·稀土元素的结构特点与价态 | 第13-14页 |
| ·稀土元素的电子层结构特点 | 第13-14页 |
| ·稀土元素的价态 | 第14页 |
| ·稀土元素的一般物理性质 | 第14-15页 |
| ·稀土元素的光谱学性质 | 第15-17页 |
| ·稀土发光材料 | 第17-20页 |
| ·稀土发光材料概述 | 第17页 |
| ·稀土发光材料的优点 | 第17-18页 |
| ·稀土发光材料的应用 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-21页 |
| 第二章 固体发光理论基础 | 第21-29页 |
| ·固体发光原理概述 | 第21-23页 |
| ·固体发光原理 | 第21-22页 |
| ·固体发光材料的组成 | 第22-23页 |
| ·稀土离子的荧光性质 | 第23-25页 |
| ·稀土荧光的产生 | 第23-24页 |
| ·光学跃迁 | 第24页 |
| ·稀土离子的荧光性能 | 第24-25页 |
| ·稀土离子在固态基质中发光的影响因素 | 第25-27页 |
| ·稀土激活剂种类及浓度的影响 | 第25页 |
| ·基质晶格的影响 | 第25-26页 |
| ·温度效应的影响 | 第26页 |
| ·压力的影响 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-29页 |
| 第三章 脉冲激光沉积技术概述 | 第29-37页 |
| ·薄膜制备技术简介 | 第29-30页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第29页 |
| ·溅射法（Sputter） | 第29页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第29-30页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第30页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）原理和优点 | 第30-33页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）原理 | 第30-32页 |
| ·脉冲激光沉积的优点 | 第32页 |
| ·PLD工艺参数对成膜质量的影响 | 第32-33页 |
| ·脉冲激光沉积的应用 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第四章 拉曼散射概述 | 第37-41页 |
| ·拉曼光谱简介 | 第37-38页 |
| ·拉曼光谱的特点 | 第38-39页 |
| ·拉曼光谱法的应用 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 实验研究 | 第41-75页 |
| 第一章 荧光材料Y_2O_3:Eu 变温拉曼光谱和荧光光谱分析 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·实验 | 第43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-48页 |
| ·结语 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第二章 多晶材料(Y_(1-x)La_x)_2O_3: Eu（x=0, 0.05 ,0.1 ,0.2 ,0.3）荧光和拉曼光谱研究 | 第51-59页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 脉冲激光沉积（PLDY_2O_3∶Eu薄膜表面形态的研究 | 第59-69页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·实验过程 | 第59-60页 |
| ·靶材制备 | 第59页 |
| ·衬底清洗 | 第59-60页 |
| ·沉积镀膜 | 第60页 |
| ·退火 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-65页 |
| ·结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第四章 多晶材料(La_(1-x)Y_x)_2O_3:Eu（x=0, 0.05 ,0.1）荧光和拉曼光谱研究 | 第69-75页 |
| ·引言 | 第69页 |
| ·实验过程 | 第69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-72页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| Eu~(3+)掺杂荧光材料光学性质及用PLD沉积其薄膜特性的研究的展望 | 第75-77页 |
| 附录：攻读硕士期间论文发表情况 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
