| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·半导体光催化剂降解有机物的机理 | 第7-8页 |
| ·可见光催化的研究现状 | 第8-10页 |
| ·Ti0_2 的研究现状 | 第10-14页 |
| ·Ti0_2 晶形结构与光催化性能 | 第10-11页 |
| ·Ti0_2 薄膜制备方法 | 第11-14页 |
| ·Cu_20 的研究现状 | 第14-19页 |
| ·Cu_20 晶体结构与光催化性能 | 第14-15页 |
| ·Cu_20 薄膜制备方法 | 第15-19页 |
| ·选题依据与研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 Cu_20/Ti0_2复合膜的制备及表征 | 第21-39页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·实验材料与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·实验设备及测试仪器 | 第22-23页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜的制备 | 第23-25页 |
| ·不锈钢基底化学沉积Ni-P-Ti0_2 | 第23-24页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜的制备 | 第24-25页 |
| ·最佳工艺条件的筛选 | 第25-31页 |
| ·实验部分 | 第25-27页 |
| ·实验结果分析 | 第27-31页 |
| ·实验结论 | 第31页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜性能表征 | 第31-32页 |
| ·X 射线衍射(XRD)物相和晶粒尺寸分析 | 第31页 |
| ·扫描电镜晶型分析 | 第31-32页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析 | 第32页 |
| ·阳极极化曲线分析 | 第32页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜的表征结果分析 | 第32-39页 |
| ·XRD 测试结果分析 | 第32-33页 |
| ·SEM 测试结果分析 | 第33-36页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析 | 第36-37页 |
| ·阳极极化曲线分析 | 第37-39页 |
| 第三章 Cu_20/Ti0_2复合膜可见光催化活性研究 | 第39-53页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·实验材料与仪器 | 第39页 |
| ·光催化反应装置 | 第39页 |
| ·光催化降解率的测定 | 第39-40页 |
| ·实验结果分析 | 第40-48页 |
| ·甲基橙染料最大吸收波长的确定 | 第40-41页 |
| ·有机染料甲基橙工作曲线的确定 | 第41页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜与Ni-P-Ti0_2 膜可见光催化性能比较 | 第41-42页 |
| ·沉积时间对光催化性能的影响 | 第42-44页 |
| ·甲基橙初始浓度对光催化性能的影响 | 第44页 |
| ·甲基橙pH 值对光催化性能的影响 | 第44-46页 |
| ·反应温度对光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜使用寿命研究 | 第47-48页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜可见光催化机理探讨 | 第48-49页 |
| ·甲基橙光催化降解过程动力学特征初步探讨 | 第49-53页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜光催化降解甲基橙动力学机理探讨 | 第49-50页 |
| ·甲基橙不同起始浓度的反应动力学研究 | 第50-53页 |
| 第四章 Cu_20/Ti0_2复合膜光电催化性能研究 | 第53-59页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·光电催化性能研究 | 第53-56页 |
| ·光电催化反应装置 | 第53-54页 |
| ·甲基橙在不同阳极偏压下的光催化降解率 | 第54-55页 |
| ·阳极偏压对反应速率和级数的影响 | 第55-56页 |
| ·电化学阻抗谱定性研究 | 第56-59页 |
| ·交流阻抗图谱简介 | 第56页 |
| ·交流阻抗图谱测试 | 第56-57页 |
| ·Cu_20/Ti0_2 复合膜的交流阻抗性质 | 第57-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 硕士期间研究成果 | 第69-70页 |
