| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-56页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·分子印记技术原理 | 第13-15页 |
| ·共价键法(预组装) | 第14-15页 |
| ·非共价键法(自组装法) | 第15页 |
| ·分子印记聚合物制备 | 第15-20页 |
| ·模板分子 | 第16-17页 |
| ·功能单体 | 第17页 |
| ·交联剂 | 第17-18页 |
| ·溶剂(致孔剂) | 第18-19页 |
| ·引发方式 | 第19-20页 |
| ·分子印记分子的提取 | 第20页 |
| ·聚合物制备方式及其形貌 | 第20-28页 |
| ·包埋法分子印记聚合物的制备 | 第20-22页 |
| ·封管聚合 | 第20-21页 |
| ·悬浮聚合 | 第21页 |
| ·两步溶胀聚合法 | 第21-22页 |
| ·沉淀聚合法 | 第22页 |
| ·原位聚合法 | 第22页 |
| ·表面分子印记技术 | 第22-28页 |
| ·无机材料表面分子印记技术 | 第23-25页 |
| ·聚合物材料表面分子印记技术 | 第25-26页 |
| ·其他表面分子印记技术 | 第26-28页 |
| ·分子印记技术的应用 | 第28-32页 |
| ·在分离领域的应用 | 第28-30页 |
| ·在色谱分离中的应用 | 第28页 |
| ·在固相萃取中的应用 | 第28-29页 |
| ·在膜分离中的应用 | 第29页 |
| ·在毛细管电泳中的应用 | 第29页 |
| ·在其它分离技术中的应用 | 第29-30页 |
| ·在临床药物分析中的应用 | 第30页 |
| ·抗体/受体模拟物 | 第30页 |
| ·药物控制释放 | 第30页 |
| ·在化学催化领域的应用 | 第30-31页 |
| ·用于化学仿生传感器 | 第31-32页 |
| ·在环境监测方面中应用 | 第32页 |
| ·分子印记技术的新发展 | 第32-40页 |
| ·高稳定性的均一分子印记位点的印记聚合物 | 第33-34页 |
| ·合成具有纠错功能的分子印记材料 | 第34-35页 |
| ·将敏感结合转变为易于读出的信号 | 第35-36页 |
| ·发展更小更薄的分子印记合成技术 | 第36-38页 |
| ·纳米结构分子印记技术 | 第38-40页 |
| ·本文选题及主要研究内容 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-56页 |
| 第二章 氧化铝模板膜制备及其富电子功能化 | 第56-68页 |
| ·引言 | 第56-57页 |
| ·有序氧化铝双通模板膜的制备工艺 | 第57-59页 |
| ·前期预处理过程 | 第57-58页 |
| ·阳极氧化过程 | 第58-59页 |
| ·结构与形貌表征 | 第59-60页 |
| ·影响多孔氧化铝模板孔有序性因素 | 第60-62页 |
| ·铝片热处理对模板孔的影响 | 第60-61页 |
| ·阳极氧化电压对模板孔的影响 | 第61页 |
| ·电解液pH值对氧化铝模板孔的影响 | 第61-62页 |
| ·电解液种类对孔径的影响 | 第62页 |
| ·氧化时间对孔有序性的影响 | 第62页 |
| ·系统的稳定性对孔有序性的影响 | 第62页 |
| ·氧化铝有序孔阵列的形成机理 | 第62-64页 |
| ·氧化铝模板孔壁的富电子功能化 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 第三章 沉淀聚合法制备 TNT印记微球及其分子识别性能 | 第68-88页 |
| ·引言 | 第68-70页 |
| ·实验部分 | 第70-72页 |
| ·仪器与试剂 | 第70页 |
| ·TNT分子印记聚合物微球的制备 | 第70-71页 |
| ·分子印记聚合物微球的大小及形状的测定 | 第71页 |
| ·结合实验 | 第71-72页 |
| ·印记聚合物的动力学特性 | 第72页 |
| ·结果和讨论 | 第72-84页 |
| ·模板分子 TNT和功能单体丙烯酰胺(AA)的作用预测 | 第72-74页 |
| ·沉淀聚合法制备印记聚合物微球 | 第74-78页 |
| ·印记聚合物微球中模板分子的提取 | 第78-79页 |
| ·TNT分子印记微球的结合特性 | 第79-81页 |
| ·TNT分子印记微球的选择性 | 第81-83页 |
| ·TNT分子印记微球的吸附的动力学特性 | 第83-84页 |
| ·本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-88页 |
| 第四章 表面分子自组装合成 TNT印记聚合物纳米线/纳米管阵列 | 第88-118页 |
| ·引言 | 第88-91页 |
| ·实验部分 | 第91-95页 |
| ·试剂和仪器 | 第91页 |
| ·实验方法 | 第91-95页 |
| ·APTS修饰氧化铝模板 | 第92页 |
| ·TNT在 APTS修饰后氧化铝模板孔壁上自组装 | 第92-93页 |
| ·TNT分子印记聚合物纳米线/纳米管阵列制备 | 第93页 |
| ·TNT分子印记聚合物材料中模板分子的提取 | 第93-94页 |
| ·TNT分子印记聚合物形貌的观察 | 第94页 |
| ·分子印记聚合物的稳态结合实验 | 第94页 |
| ·TNT分子印记聚合物的动力学结合实验 | 第94-95页 |
| ·HPLC测定 TNT的浓度 | 第95页 |
| ·结果与讨论 | 第95-114页 |
| ·TNT在 APTS-AAO孔壁上的自组装作用 | 第95-99页 |
| ·TNT分子印记聚合物纳米线/纳米管的制备 | 第99-106页 |
| ·TNT印记聚合物的分子识别特性 | 第106-111页 |
| ·TNT印记聚合物的吸附动力学特性 | 第111-112页 |
| ·TNT印记聚合物的吸附选择性 | 第112-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 参考文献 | 第115-118页 |
| 第五章 高密度印记位点超薄氧化硅纳米管的荧光标记及其对 TNT分子探测 | 第118-146页 |
| ·引言 | 第118-122页 |
| ·实验部分 | 第122-125页 |
| ·试剂和仪器 | 第122页 |
| ·实验方法 | 第122-125页 |
| ·高密度 TNT印记位点的氧化硅纳米管的制备 | 第123页 |
| ·印记二氧化硅纳米管中模板 TNT分子的提取 | 第123-124页 |
| ·印记二氧化硅纳米管的分子识别特性 | 第124页 |
| ·印记二氧化硅纳米管结合 TNT的动力学特性 | 第124页 |
| ·印记二氧化硅纳米管壁的荧光标记 | 第124-125页 |
| ·结果与讨论 | 第125-142页 |
| ·TNT分子与 APTS的作用 | 第125-127页 |
| ·TNT分子印记二氧化硅纳米管的制备 | 第127-132页 |
| ·印记二氧化硅纳米管中模板分子的提取 | 第132-134页 |
| ·印记二氧化硅纳米管的分子识别特性 | 第134-139页 |
| ·TNT印记聚合物的吸附动力学特性 | 第139-140页 |
| ·氧化硅纳米管的荧光标识及敏感信号输出机理初探 | 第140-142页 |
| ·本章小结 | 第142-143页 |
| 参考文献 | 第143-146页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第146-149页 |
| ·全文总结 | 第146-147页 |
| ·展望 | 第147-149页 |
| 博士期间主要完成研究成果 | 第149-150页 |
| 致谢 | 第150页 |
