| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| ·TiO_2的概述 | 第8页 |
| ·TiO_2光催化材料的制备方法 | 第8-9页 |
| ·TiO_2的晶体结构 | 第9-10页 |
| ·TiO_2光催化作用机理 | 第10-11页 |
| ·有待解决的问题 | 第11-12页 |
| ·本研究的主要内容 | 第12-13页 |
| 第二章 实验设备及检测设备 | 第13-16页 |
| ·实验仪器 | 第13-14页 |
| ·检测仪器 | 第14-16页 |
| 第三章 薄膜的制备方法概述 | 第16-30页 |
| ·溅射镀膜概述 | 第16页 |
| ·溅射镀膜的分类 | 第16-20页 |
| ·TiO_2靶材的制备 | 第20-24页 |
| ·基片的清洗 | 第24-25页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第25-29页 |
| ·真空室的操作 | 第29-30页 |
| 第四章 气氛退火制备TiO_(2-x)N_x薄膜的表征和光催化性能研究 | 第30-41页 |
| ·射频磁控溅射制备TiO_2薄膜 | 第30页 |
| ·气氛退火制备TiO_(2-x)N_x薄膜 | 第30页 |
| ·薄膜的表征 | 第30-36页 |
| ·TiO_(2-x)N_x薄膜与TiO_2薄膜的光催化测试 | 第36-40页 |
| ·本章结论 | 第40-41页 |
| 第五章 反应溅射制备TiO_(2-x)N_x薄膜的表征和光催化活性研究 | 第41-50页 |
| ·薄膜的制备和退火处理 | 第41页 |
| ·薄膜的表征 | 第41-46页 |
| ·TiO_(2-x)N_x薄膜与TiO_2薄膜光催化测试 | 第46-49页 |
| ·本章结论 | 第49-50页 |
| 第六章 结论 | 第50-52页 |
| 第七章 将来有待进行的工作 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
