| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-25页 |
| ·集成电路的发展所面临的困难 | 第8-11页 |
| ·低介电常数材料在集成电路工艺中的应用 | 第11-13页 |
| ·低k材料的介电常数 | 第13-16页 |
| ·低介电常数材料概述 | 第16-23页 |
| ·本文的选题思路和研究目的 | 第23-25页 |
| 2 薄膜制备工艺、微结构表征和性能测试 | 第25-39页 |
| ·低介电常数薄膜的制备工艺 | 第25-33页 |
| ·低k薄膜的测试及表征方法 | 第33-39页 |
| 3 实验部分 | 第39-46页 |
| ·实验过程 | 第39-43页 |
| ·薄膜的测试表征技术 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 结果与讨论 | 第46-60页 |
| ·薄膜的椭偏光谱分析 | 第46-51页 |
| ·薄膜的结构 | 第51-54页 |
| ·薄膜的机械性能分析 | 第54-56页 |
| ·成膜条件对薄膜的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 5 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |