| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-27页 |
| ·微电子机械系统(MEMS)技术概述 | 第11-15页 |
| ·MEMS的历史及应用 | 第11页 |
| ·微机电系统的特点 | 第11页 |
| ·MEMS的加工制造技术 | 第11-14页 |
| ·MEMS的发展前景及面临的问题 | 第14-15页 |
| ·红外探测器概述 | 第15-25页 |
| ·红外探测器的主要性能与指标 | 第15-18页 |
| ·光子型红外探测器 | 第18-19页 |
| ·非致冷热红外探测器 | 第19-25页 |
| ·本论文的研究目的及意义 | 第25-27页 |
| 第二章 微测辐射热计非晶硅热敏材料的研究 | 第27-39页 |
| ·a-Si薄膜及制备方法 | 第27-29页 |
| ·α-Si薄膜的Raman散射谱随不同掺杂和退火条件的变化 | 第29-32页 |
| ·红外透射谱表征掺杂及退火对非晶硅微结构及红外吸收特性的影响 | 第32-34页 |
| ·a-Si薄膜电阻率随掺杂和退火条件改变的关系 | 第34-38页 |
| ·半导体薄膜电阻温度特性 | 第34-35页 |
| ·s-Si薄膜电阻率随不同掺杂和退火条件的变化 | 第35-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 第三章 微机械测辐射热计的研究 | 第39-61页 |
| ·微机械测辐射热计原理和性能参数 | 第39-44页 |
| ·测辐射热计基本工作原理 | 第39-40页 |
| ·测辐射热计的性能分析 | 第40-44页 |
| ·微机械测辐射热计的设计 | 第44-60页 |
| ·测辐射热计的薄膜结构 | 第45-47页 |
| ·微测辐射热计的开口设计结构 | 第47-48页 |
| ·结构参数与灵敏度的解析模型 | 第48-54页 |
| ·优化结构的有限元分析 | 第54-60页 |
| ·解析结构简化的有限元模拟 | 第54-57页 |
| ·测辐射热计间的热串扰有限元模拟 | 第57页 |
| ·红外吸收区开口设计的有限元模拟 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第四章 微机械测辐射热计的制作 | 第61-72页 |
| ·微测辐射热计的制备工艺介绍 | 第61-64页 |
| ·微测辐射热计的绝热结构释放工艺 | 第61-62页 |
| ·硅的各向异性腐蚀 | 第61-62页 |
| ·绝热结构释放 | 第62页 |
| ·离子束刻蚀 | 第62-64页 |
| ·微测辐射热计制作 | 第64-68页 |
| ·工艺研究及存在的问题 | 第64-67页 |
| ·器件制作工艺流程 | 第67-68页 |
| ·流水结果 | 第68-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 第五章 微机械测辐射热计的性能测试 | 第72-85页 |
| ·测试系统与方法 | 第72-74页 |
| ·器件的性能测试 | 第74-83页 |
| ·电压灵敏度的性能测试 | 第74-77页 |
| ·电压灵敏度的频率响应 | 第75-76页 |
| ·噪声功率密度的频率响应 | 第76页 |
| ·噪声功率密度与电源电压的关系 | 第76-77页 |
| ·电压灵敏度与电源电压的关系 | 第77页 |
| ·噪声功率密度的性能测试 | 第77-78页 |
| ·探测率与各项参数的关系 | 第78-79页 |
| ·探测率的频率响应 | 第78-79页 |
| ·探测率与电源电压的关系 | 第79页 |
| ·基本性能结果 | 第79-80页 |
| ·器件的均匀性测试 | 第80-83页 |
| ·热敏电阻均匀性测试 | 第80-81页 |
| ·信号电压均匀性测试 | 第81-82页 |
| ·噪声功率密度测试 | 第82-83页 |
| ·小结 | 第83-85页 |
| 第六章 总结 | 第85-90页 |
| ·论文工作主要结论 | 第84-85页 |
| ·论文工作的创新点 | 第85-86页 |
| ·对进一步研究工作的展望 | 第86-90页 |
| 攻读博士期间发表的文章 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91-92页 |
| 个人简介 | 第92-93页 |