刻蚀衍射光栅波分复用器仿真与优化设计
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-32页 |
| ·波分复用技术 | 第10-19页 |
| ·概述 | 第10-12页 |
| ·光纤 | 第12-13页 |
| ·有源器件 | 第13-16页 |
| ·无源器件 | 第16-19页 |
| ·波分复用器 | 第19-23页 |
| ·薄膜波分复用器 | 第19-20页 |
| ·基于光纤光栅的波分复用器 | 第20-21页 |
| ·体光栅波分复用器 | 第21页 |
| ·平面集成波分复用器 | 第21-23页 |
| ·刻蚀衍射光栅波分复用器 | 第23-28页 |
| ·器件结构 | 第23-25页 |
| ·光栅结构 | 第25-26页 |
| ·关键结构参数 | 第26-27页 |
| ·仿真设计方法 | 第27页 |
| ·制作 | 第27-28页 |
| ·论文研究的内容和目标 | 第28-30页 |
| ·论文的研究内容 | 第28页 |
| ·论文的创新点 | 第28-29页 |
| ·论文的结构 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第二章 刻蚀衍射光栅数值分析方法与性能分析 | 第32-60页 |
| ·数值方法 | 第32-44页 |
| ·标量衍射方法 | 第32-33页 |
| ·矩量法 | 第33-36页 |
| ·边界元方法 | 第36-41页 |
| ·对全内反射型光栅的快速仿真方法 | 第41-44页 |
| ·性能分析 | 第44-58页 |
| ·插入损耗 | 第44-49页 |
| ·偏振相关损耗 | 第49-52页 |
| ·通道均匀性 | 第52-53页 |
| ·色散 | 第53-55页 |
| ·串扰 | 第55-56页 |
| ·回波损耗 | 第56-57页 |
| ·由性能分析合理选择器件结构参数 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第三章 刻蚀衍射光栅的优化设计 | 第60-93页 |
| ·平顶型频谱响应 | 第60-70页 |
| ·背景介绍 | 第60-61页 |
| ·使用多模干涉功分器实现频谱平坦化 | 第61-63页 |
| ·预展宽结构对模场分布的改进 | 第63-66页 |
| ·高平坦、边缘陡峭、低色散的刻蚀衍射光栅设计 | 第66-70页 |
| ·低偏振相关损耗设计 | 第70-77页 |
| ·背景介绍 | 第70页 |
| ·利用光栅圆角来实现低偏振相关损耗 | 第70-71页 |
| ·利用光栅表面粗糙度来实现低偏振相关损耗 | 第71-73页 |
| ·利用光栅阴影面倾斜来实现低偏振相关损耗 | 第73-77页 |
| ·低带间串扰设计 | 第77-83页 |
| ·背景介绍 | 第77页 |
| ·通过输出端优化刻蚀来实现低串扰 | 第77-83页 |
| ·低回波损耗设计 | 第83-87页 |
| ·背景介绍 | 第83页 |
| ·输入波导位置的选择 | 第83-84页 |
| ·啁啾衍射级设计来实现低回损 | 第84-87页 |
| ·大自由光谱范围设计 | 第87-90页 |
| ·背景介绍 | 第87-88页 |
| ·优化啁啾衍射级设计 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-93页 |
| 第四章 工艺误差对器件性能的影响 | 第93-111页 |
| ·光栅圆角效应 | 第93-96页 |
| ·光栅表面粗糙 | 第96-102页 |
| ·点缺陷 | 第102-109页 |
| ·波导内的点缺陷 | 第102-106页 |
| ·自由扩散区的点缺陷 | 第106-109页 |
| 参考文献 | 第109-111页 |
| 第五章 制作及实验 | 第111-128页 |
| ·硅基二氧化硅刻蚀衍射光栅制作工艺 | 第111-126页 |
| ·硅基二氧化硅刻蚀衍射光栅的制作流程 | 第111-116页 |
| ·掩膜制作 | 第116-118页 |
| ·波导沉积 | 第118-121页 |
| ·光刻与金属掩膜溅射 | 第121-122页 |
| ·ICP刻蚀 | 第122-123页 |
| ·性能测试 | 第123-126页 |
| ·刻蚀衍射光栅的其它应用 | 第126-127页 |
| 参考文献 | 第127-128页 |
| 第六章 结论与展望 | 第128-131页 |
| ·论文总结 | 第128-129页 |
| ·刻蚀衍射光栅的后续研究 | 第129-130页 |
| 参考文献 | 第130-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 研究生期间收录的论文 | 第132-133页 |
