摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
目录 | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
·引言 | 第9-11页 |
·V_2O_5的结构 | 第11-14页 |
·α-V_2O_5 | 第11-12页 |
·β-V_2O_5 | 第12-13页 |
·γ-V_2O_5 | 第13-14页 |
·V_2O_5薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
·真空蒸发镀膜法 | 第14-15页 |
·溅射法 | 第15页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第15页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第15-16页 |
·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
·电泳沉积法 | 第17-18页 |
·V_2O_5薄膜的应用及研究进展 | 第18-22页 |
·传感器 | 第19页 |
·电致变色器件 | 第19-20页 |
·二次电池正极材料 | 第20-21页 |
·超导性 | 第21-22页 |
·本论文的选题背景和研究内容 | 第22-23页 |
第二章 实验方法 | 第23-29页 |
·实验方案 | 第23页 |
·实验材料及仪器设备 | 第23-24页 |
·实验药品 | 第23-24页 |
·实验设备及分析仪器 | 第24页 |
·V_2O_5薄膜的制备工艺 | 第24-25页 |
·超声实验装置 | 第24-25页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第25页 |
·V_2O_5薄膜的表征方法 | 第25-27页 |
·X射线衍射仪 | 第25-26页 |
·显微拉曼光谱仪 | 第26页 |
·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
·原子力显微镜 | 第27页 |
·V_2O_5薄膜性能测试方法 | 第27-29页 |
·紫外-可见分光光度计 | 第27页 |
·循环伏安法 | 第27-29页 |
第三章 无机溶胶-凝胶法制备V_2O_5薄膜及其性能研究 | 第29-53页 |
·前言 | 第29页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第29-31页 |
·V_2O_5溶胶制备 | 第29-30页 |
·基片准备 | 第30页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第30-31页 |
·V_2O_5薄膜的结构和性能 | 第31-42页 |
·V_2O_5薄膜的组织结构分析 | 第31-39页 |
·V_2O_5薄膜的光学性能 | 第39-41页 |
·V_2O_5薄膜的电化学性能 | 第41-42页 |
·工艺条件V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第42-52页 |
·衬底对V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第42-44页 |
·热处理对V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第44-48页 |
·搅拌工艺对V_2O_5溶胶的影响 | 第48-50页 |
·不同结构V_2O_5薄膜的形成机理 | 第50-52页 |
·β-V_2O_5结构薄膜形成机理 | 第50-51页 |
·γ-V_2O_5结构薄膜形成机理 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第四章 电泳沉积法制备V_2O_5薄膜及其性能研究 | 第53-67页 |
·前言 | 第53页 |
·V_2O_5薄膜的制备 | 第53-55页 |
·V_2O_5溶胶制备 | 第54页 |
·电泳沉积过程 | 第54-55页 |
·V_2O_5薄膜的热处理 | 第55页 |
·V_2O_5薄膜的结构和性能 | 第55-61页 |
·V_2O_5薄膜的组织结构分析 | 第55-58页 |
·V_2O_5薄膜的光学性能 | 第58-59页 |
·V_2O_5薄膜电学性能 | 第59-61页 |
·工艺条件V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第61-66页 |
·电压对V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第61-63页 |
·热处理温度对V_2O_5薄膜结构和性能的影响 | 第63-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第五章 V_2O_5纳米线制备的探索研究 | 第67-77页 |
·前言 | 第67-68页 |
·V_2O_5纳米线的制备 | 第68-72页 |
·V_2O_5溶胶制备 | 第68页 |
·基片准备 | 第68页 |
·V_2O_5纳米线合成 | 第68-69页 |
·V_2O_5纳米线的微观结构 | 第69-72页 |
·热处理温度对合成纳米线的影响 | 第72-73页 |
·衬底对合成V_2O_5纳米线的影响 | 第73-75页 |
·V_2O_5纳米线的光学性能 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-77页 |
第六章 总结与展望 | 第77-79页 |
·结论 | 第77-78页 |
·展望 | 第78-79页 |
致谢 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-89页 |
附录A 攻读学位期间发表论文情况 | 第89页 |