可低压驱动的钛酸钡薄膜场发射研究
| 摘 要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-18页 |
| ·场发射与场发射显示技术 | 第9-11页 |
| ·场发射显示的核心是阴极技术 | 第11-14页 |
| ·高温金属材料 | 第11-12页 |
| ·金刚石材料 | 第12-13页 |
| ·纳米材料 | 第13-14页 |
| ·课题的选取 | 第14-18页 |
| ·新型结构的提出 | 第14-15页 |
| ·钙钛矿结构铁电材料 | 第15-17页 |
| ·本论文结构 | 第17-18页 |
| 第二章 场发射理论 | 第18-23页 |
| ·场发射理论 | 第18-21页 |
| ·F－N 关系及场增强效应 | 第21-23页 |
| 第三章 溅射镀膜与薄膜的表征 | 第23-31页 |
| ·辉光放电与溅射 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25-27页 |
| ·薄膜生长 | 第27-29页 |
| ·薄膜生长理论 | 第27-28页 |
| ·实验设备介绍 | 第28-29页 |
| ·薄膜的表征手段 | 第29-31页 |
| 第四章 钛酸钡薄膜的制备及场发射特性 | 第31-45页 |
| ·钛酸钡薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·钛酸钡薄膜的表征 | 第32-34页 |
| ·场发射测试 | 第34-37页 |
| ·场发射装置测量 | 第34-35页 |
| ·钛酸钡薄膜场发射测试 | 第35-36页 |
| ·场发射机理 | 第36-37页 |
| ·模拟计算 | 第37-43页 |
| ·计算模型 | 第37-38页 |
| ·发散角计算结果 | 第38-41页 |
| ·发射效率的计算结果 | 第41-43页 |
| ·结构改进和后期工作 | 第43-45页 |
| ·结构改进 | 第43-44页 |
| ·等离子处理 | 第44-45页 |
| 第五章 总结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
