| 第一章 文献综述 | 第1-30页 |
| ·无机膜的概况 | 第10-17页 |
| ·无机膜发展历史 | 第10页 |
| ·无机膜的类型 | 第10页 |
| ·无机膜的特性 | 第10-11页 |
| ·无机膜的应用 | 第11-13页 |
| ·在液体过滤和分离中的应用 | 第11-12页 |
| ·在气体分离中的应用 | 第12页 |
| ·膜反应器 | 第12-13页 |
| ·无机膜的研究现状 | 第13-17页 |
| ·中孔无机膜的研究现状 | 第14-16页 |
| ·微孔无机膜的研究现状 | 第16-17页 |
| ·无机膜的制备技术 | 第17-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第17-19页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19-20页 |
| ·固态粒子烧结法 | 第20页 |
| ·相分离-沥滤法 | 第20-21页 |
| ·阳极氧化法 | 第21页 |
| ·热分解法 | 第21页 |
| ·其他方法 | 第21-22页 |
| ·无机膜微观结构表征 | 第22-29页 |
| ·吸附等温线 | 第22-25页 |
| ·比表面积 | 第25-26页 |
| ·孔结构 | 第26-29页 |
| ·研究内容和研究目的 | 第29-30页 |
| ·研究内容 | 第29页 |
| ·研究目的 | 第29-30页 |
| 第二章 SiO_2膜的制备与微观结构表征 | 第30-40页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-32页 |
| ·实验原料 | 第30页 |
| ·实验设备与装置 | 第30-31页 |
| ·SiO_2 膜的制备 | 第31-32页 |
| ·实验设计 | 第32页 |
| ·样品表征手段 | 第32-33页 |
| ·X 射线分析(XRD) | 第32页 |
| ·红外光谱分析(FT-IR) | 第32-33页 |
| ·差热和热重分析(DTA-TG) | 第33页 |
| ·微观结构分析(BET、BJH 等) | 第33页 |
| ·分析与讨论 | 第33-39页 |
| ·SiO_2 膜的 XRD 分析 | 第33页 |
| ·SiO_2 膜的 IR 分析 | 第33-34页 |
| ·SiO_2 膜的 DTA-TG 分析 | 第34-35页 |
| ·制备条件对 SiO_2 膜的微观结构影响 | 第35-39页 |
| ·H_2O/TEOS 的比值对SiO_2 膜微观结构的影响 | 第35-36页 |
| ·C_2H_5OH/TEOS比对SiO_2 膜微观结构的影响 | 第36-37页 |
| ·不同的 HNO_3/TEOS比对SiO_2膜微观结构的影响 | 第37-38页 |
| ·不同的 Reflux_(H_2O)/TEOS比对SiO_2膜微观结构的影响 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 Al_2O_3膜及其掺杂膜制备与微观结构表征 | 第40-80页 |
| ·引言 | 第40-43页 |
| ·实验部分 | 第43-46页 |
| ·实验原料 | 第43页 |
| ·实验仪器和设备 | 第43页 |
| ·膜的制备 | 第43-45页 |
| ·Al_2O_3 膜的制备 | 第43-44页 |
| ·掺杂PVA的Al_2O_3膜制备 | 第44页 |
| ·掺杂 Y 的 Al_2O_3 膜制备 | 第44页 |
| ·掺杂 Nd 的 Al_2O_3 膜制备 | 第44页 |
| ·掺杂 Ce 的 Al_2O_3 膜制备 | 第44-45页 |
| ·实验设计 | 第45页 |
| ·样品表征 | 第45-46页 |
| ·X 射线分析(XRD) | 第45页 |
| ·红外光谱分析(IR) | 第45-46页 |
| ·差热和热重分析(DTA-TG) | 第46页 |
| ·微观结构分析(BET、BJH 等) | 第46页 |
| ·表面形貌分析(TEM) | 第46页 |
| ·分析与讨论 | 第46-79页 |
| ·XRD 分析 | 第46-51页 |
| ·异丙醇铝水解产物 XRD 分析 | 第46-47页 |
| ·纯 Al_2O_3 膜在不同煅烧温度下 XRD 分析 | 第47页 |
| ·掺杂 PVA 的 Al_2O_3 膜在不同煅烧温度下的 XRD 分析 | 第47-48页 |
| ·掺杂 Y 的 Al_2O_3 膜 XRD 分析 | 第48-49页 |
| ·掺杂 Nd 的 Al_2O_3 膜 XRD 分析 | 第49-50页 |
| ·掺杂 Ce 的 Al_2O_3 膜 XRD 分析 | 第50-51页 |
| ·IR 分析 | 第51-52页 |
| ·Al_2O_3 膜 IR 分析 | 第51页 |
| ·掺杂 PVA 的 Al_2O_3 膜 IR 分析 | 第51-52页 |
| ·差热-热重分析(DTA-TG) | 第52-57页 |
| ·Al_2O_3 膜 DTA-TG 分析 | 第52-53页 |
| ·掺杂 PVA 的 Al_2O_3 膜 DTA-TG 分析 | 第53页 |
| ·掺杂 Y 的 Al_2O_3 膜 DTA-TG 分析 | 第53-54页 |
| ·掺杂 Nd 的 Al_2O_3 膜 DTA-TG 分析 | 第54-56页 |
| ·掺杂 Ce 的 Al_2O_3 膜 DTA-TG 分析 | 第56-57页 |
| ·微观结构分析(TEM) | 第57-59页 |
| ·制备条件对 Al_2O_3 膜微观结构影响 | 第59-65页 |
| ·胶溶剂的种类和用量对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第59-61页 |
| ·水解温度及加水量对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第61-62页 |
| ·回流时间对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第62-63页 |
| ·煅烧温度对 Al_2O_3 膜孔结构的影响 | 第63-65页 |
| ·掺杂 PVA 对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第65-70页 |
| ·掺杂不同含量的 PVA 对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第65-67页 |
| ·掺杂 PVA 的 Al_2O_3 膜在不同煅烧温度下的微观结构 | 第67-70页 |
| ·掺杂 Y 对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第70-73页 |
| ·掺杂 Nd 对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第73-76页 |
| ·掺杂 Ce 对 Al_2O_3 膜微观结构的影响 | 第76-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 第四章 Al_2O_3-SiO_2复合膜的制备与结构表征 | 第80-93页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·实验部分 | 第80-81页 |
| ·实验原料 | 第80页 |
| ·实验仪器和设备 | 第80页 |
| ·Al_2O_3-SiO_2 复合膜的制备 | 第80-81页 |
| ·样品表征 | 第81页 |
| ·分析与讨论 | 第81-92页 |
| ·XED 分析 | 第81-84页 |
| ·FT-IR 分析 | 第84-86页 |
| ·DTA-TG 分析 | 第86-87页 |
| ·透射电镜分析(TEM) | 第87页 |
| ·不同的化学组成对复合膜的微观结构影响 | 第87-90页 |
| ·烧结温度对复合膜的微观结构影响 | 第90-92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 结 论 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-100页 |
| 致 谢 | 第100-101页 |
| 个人简历 | 第101页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第101页 |
