纳米金刚石涂层场发射阴极工艺改进及理论研究
| 第一章 绪论 | 第1-16页 |
| ·FED显示特点及其优势 | 第8页 |
| ·场发射器件的发展历程及现状 | 第8-9页 |
| ·场发射器件的技术状况 | 第9-13页 |
| ·场发射阴极的分类 | 第9-11页 |
| ·实用的场发射器件结构 | 第11-13页 |
| ·论文选题及研究内容 | 第13-16页 |
| ·目前FED存在的问题及研究方向 | 第13页 |
| ·金刚石场发射阴极材料的研究现状 | 第13-14页 |
| ·本文主要的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 场致电子发射理论 | 第16-26页 |
| ·F-N电子场发射理论简介 | 第16-18页 |
| ·F-N场发射电流公式 | 第16-18页 |
| ·F-N曲线及其物理意义 | 第18页 |
| ·金刚石场发射的现有理论 | 第18-21页 |
| ·钦基纳米金刚石场涂层场发射模型分析 | 第21-26页 |
| ·模型描述 | 第21-23页 |
| ·模型分析 | 第23-26页 |
| 第三章 场发射阴极制备工艺研究 | 第26-36页 |
| ·超声分散液配方的改进 | 第26-28页 |
| ·纳米金刚石粉均匀涂覆工艺的改进 | 第28-29页 |
| ·真空退火系统中热丝结构的改进 | 第29-31页 |
| ·氢等离子体处理工艺的改进 | 第31-33页 |
| ·场发射性能测试系统及分析设备 | 第33-36页 |
| 第四章 TiC界面层对场发射性能的影响研究 | 第36-48页 |
| ·金刚石和金属钛热粘接的可行性研究 | 第36-41页 |
| ·钛、碳化钛与金刚石接触的能级分析 | 第36-38页 |
| ·金属钛与金刚石的欧姆接触 | 第38页 |
| ·金属钛与金刚石粉的热分析 | 第38-39页 |
| ·热粘接的初步尝试 | 第39-41页 |
| ·热处理温度对热粘接程度及场发射性能的影响 | 第41-46页 |
| ·热处理温度对热粘接程度的影响 | 第41-44页 |
| ·不同热处理温度下样品的场发射性能比较 | 第44-45页 |
| ·测试结果分析 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 第五章 金刚石涂层中电子输运机理的研究 | 第48-58页 |
| ·电场下的载流子输运 | 第48-51页 |
| ·强场对载流子输运的影响 | 第48-50页 |
| ·纳米颗粒的输运机理 | 第50-51页 |
| ·影响纳米金刚石薄膜内部电子输运的主要因素 | 第51-52页 |
| ·金刚石涂层厚度对电子输运的影响研究 | 第52-54页 |
| ·样品制备的可重复性分析 | 第54-55页 |
| ·金刚石涂层中TiC形成的电子输运通道研究 | 第55-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第六章 氢等离子体处理工艺研究及发光均匀性分析 | 第58-76页 |
| ·氢等离子体处理的理论依据 | 第58-63页 |
| ·射频等离子体技术 | 第58-59页 |
| ·氢与金刚石的相互作用机理 | 第59-63页 |
| ·氢等离子体处理实验结果及分析 | 第63-71页 |
| ·实验结果 | 第63-66页 |
| ·实验机理分析 | 第66-71页 |
| ·发光均匀性分析 | 第71-74页 |
| ·小结 | 第74-76页 |
| 总结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
| 在读期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
