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用于DWDM系统的波长选择性光探测器的研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
第一章 绪论第10-13页
   ·研究意义和课题背景第10-12页
   ·论文结构安排第12-13页
第二章 密集波分复用系统(DWDM)及相关技术概述第13-25页
   ·DWDM系统技术原理及应用现状第13-15页
   ·用于DWDM系统的解复用技术概述第15-18页
   ·用于DWDM系统的接收技术概述第18-24页
   ·小结第24-25页
第三章 基于双结PIN的RCE光探测器的性能研究第25-44页
   ·多结PIN探测器概述第25-28页
   ·双结PIN-RCE光探测器的性能分析第28-37页
     ·双结PIN-RCE光探测器的结构第29-30页
     ·双结PIN-RCE光探测器的性能分析第30-37页
   ·双层结构RCE光探测器的优化设计第37-43页
     ·优化过程第37-41页
     ·优化结果第41-43页
   ·小结第43-44页
第四章 双结PIN可调谐光探测器第44-58页
   ·F-P腔的调谐机理第44-48页
     ·F-P腔的传输特性分析第44-47页
     ·F-P腔热光调谐机理第47-48页
   ·利用DBR作为F-P腔反射镜的性能研究第48-53页
     ·薄膜介质的传输矩阵推导第49-50页
     ·影响DBR作为反射镜的F-P腔光谱透射的因素第50-53页
   ·双结PIN可调谐光探测器的理论分析第53-57页
     ·器件结构第53-55页
     ·量子效率和高速响应第55-57页
   ·小结第57-58页
第五章 改进电极的PIN探测器及双结PIN RCE探测器的制备与性能测试第58-74页
   ·半导体光电子工艺简介第58-61页
     ·异质外延生长第58-59页
     ·光刻工艺第59-60页
     ·腐蚀工艺第60页
     ·金属镀膜工艺第60-61页
   ·改进电极的PIN光探测器实验制备及测试结果第61-68页
     ·外延片生长结构第61-62页
     ·后工艺制备过程第62-66页
     ·高速响应性能测试第66-68页
   ·GSG电极的双结RCE光探测器的制备及性能测试第68-73页
     ·器件结构第68-69页
     ·后工艺制备第69-71页
     ·测试结果第71-73页
   ·小结第73-74页
参考文献第74-81页
致谢第81-82页
攻读硕士学位期间发表的论文目录第82页

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