| 第一章 文献综述 | 第1-33页 |
| 第1节 表面图案化技术 | 第9-22页 |
| ·表面结构图案化技术 | 第9-18页 |
| ·光刻技术(lithography) | 第10-11页 |
| ·物理接触(physical contact)图案化技术 | 第11-12页 |
| ·软光刻技术(soft lithography) | 第12-17页 |
| ·软光刻技术简介 | 第12-14页 |
| ·软光刻技术的拓展 | 第14-17页 |
| ·自组装(self-assembly)结构图案化技术 | 第17-18页 |
| ·表面性质图案化技术 | 第18-22页 |
| ·气相沉积(vapor deposition)技术 | 第19页 |
| ·LB(Langmuir-Blodgett)单分子膜层图案化技术 | 第19-20页 |
| ·自组装单层膜SAMs(self-assembled monolayers)图案化技术 | 第20-22页 |
| 第2节 胶体晶体及其图案化方法 | 第22-32页 |
| ·胶体晶体简介 | 第22-23页 |
| ·物理模板法 | 第23-26页 |
| ·化学模板法 | 第26-29页 |
| ·乳液液滴模板法 | 第29页 |
| ·有序微观空缺结构的胶体晶体膜－固体基底体系的构造 | 第29-32页 |
| 第3节 本课题选题的意义和思路 | 第32-33页 |
| 第二章 以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化 | 第33-44页 |
| 第1节 引言 | 第33-34页 |
| 第2节 实验部分 | 第34-37页 |
| ·实验材料 | 第34页 |
| ·实验方法 | 第34-36页 |
| ·具有平面结构的PDMS模板的制备 | 第34-35页 |
| ·曲面光刻胶模板的制备 | 第35页 |
| ·带有曲面凸起结构的硅橡胶模板的制备 | 第35页 |
| ·有序胶体晶体的制备 | 第35-36页 |
| ·以揭起软光刻技术进行胶体晶体的图案化 | 第36页 |
| ·表征仪器 | 第36-37页 |
| 第3节 结果与讨论 | 第37-43页 |
| ·二维胶体晶体在硬质基底上的图案化 | 第37-38页 |
| ·三维胶体晶体在硬质基底上的图案化 | 第38-40页 |
| ·二维胶体晶体在PDMS软基底上的图案化 | 第40-43页 |
| 第3节 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 以胶体晶体为墨水进行微接触印刷 | 第44-54页 |
| 第1节 引言 | 第44-45页 |
| 第2节 实验部分 | 第45-47页 |
| ·实验材料 | 第45页 |
| ·实验方法 | 第45-47页 |
| ·有序胶体晶体的制备 | 第45页 |
| ·以揭起软光刻技术将二维胶体晶体转移到PDMS模板上 | 第45-46页 |
| ·涂有聚合物膜层的基底的制备 | 第46页 |
| ·以微接触印刷技术实现胶体晶体在任意基底上的图案化 | 第46-47页 |
| ·表征仪器 | 第47页 |
| 第3节 结果与讨论 | 第47-53页 |
| ·在平面基底上图案化胶体晶体 | 第47-48页 |
| ·在曲面基底上图案化胶体晶体 | 第48-50页 |
| ·构造图案化的异质的胶体晶体 | 第50-53页 |
| 第4节 本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-69页 |
| 发表论文 | 第69-71页 |
| 致 谢 | 第71-72页 |
| 中文摘要 | 第72-74页 |
| 英文摘要 | 第74-76页 |
| 《中国优秀博硕士学位论文全文数据库》投稿声明 | 第76页 |
