镀覆电磁屏蔽复合材料
| 1 绪论 | 第1-16页 |
| ·电磁屏蔽的基本原理 | 第6-8页 |
| ·电屏蔽 | 第6-7页 |
| ·磁屏蔽 | 第7页 |
| ·电磁屏蔽 | 第7-8页 |
| ·屏蔽效能 | 第8-11页 |
| ·电磁屏蔽效能 | 第8-10页 |
| ·低频磁场屏蔽效能 | 第10-11页 |
| ·电磁屏蔽材料种类及应用 | 第11-13页 |
| ·铁磁材料 | 第11-12页 |
| ·良导体材料 | 第12页 |
| ·复合材料 | 第12-13页 |
| ·国内外电磁屏蔽复合材料研究现状 | 第13-14页 |
| ·国外电磁屏蔽复合材料研究现状 | 第13-14页 |
| ·国内电磁屏蔽复合材料研究现状 | 第14页 |
| ·选题目的和意义 | 第14-16页 |
| 2 实验原理及实验过程 | 第16-33页 |
| ·选材依据 | 第16页 |
| ·电磁屏蔽复合材料的制备 | 第16-22页 |
| ·镀覆手段 | 第16-18页 |
| ·基体材料准备 | 第18页 |
| ·基体材料的镀前处理 | 第18页 |
| ·镀液的配制及实验条件 | 第18-20页 |
| ·镀后热处理 | 第20-22页 |
| ·初始磁导率测量 | 第22-25页 |
| ·初始磁导率的理论基础 | 第22-23页 |
| ·实验原理 | 第23-25页 |
| ·电导率测量 | 第25-28页 |
| ·镀层成分测量 | 第28页 |
| ·X射线衍射 | 第28页 |
| ·镀层与基体结合强度测量 | 第28-30页 |
| ·低频磁屏蔽效能测量 | 第30-33页 |
| 3 实验结果与分析 | 第33-49页 |
| ·试样横截面金相与分析 | 第33-36页 |
| ·镀层化学成分测量结果 | 第36-37页 |
| ·X射线结果与分析 | 第37页 |
| ·磁导率测量结果与分析 | 第37-39页 |
| ·磁导率测量结果 | 第37-38页 |
| ·磁导率测量结果分析 | 第38-39页 |
| ·电导率测量结果与分析 | 第39-40页 |
| ·电导率测量结果 | 第39页 |
| ·电导率测量结果分析 | 第39-40页 |
| ·镀层与基体结合强度测量结果与分析 | 第40-41页 |
| ·镀层与基体结合强度测量结果 | 第40页 |
| ·镀层与基体结合强度测量结果分析 | 第40-41页 |
| ·低频磁屏蔽效能测量结果与分析 | 第41-49页 |
| ·铜基体试样的低频磁屏蔽效能测量结果及分析 | 第42-45页 |
| ·硅钢基体试样的低频磁屏蔽效能测量结果及分析 | 第45-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 附录A 划痕仪实验临界载荷图 | 第54-57页 |
| 附录B 铜基体试样屏蔽效能测试原始数据 | 第57-58页 |
| 附录C 硅钢基体试样屏蔽效能测试原始数据 | 第58-59页 |
