| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-38页 |
| ·本课题相关领域的历史、现状和前沿发展情况 | 第15-16页 |
| ·孔蚀机理 | 第16-21页 |
| ·蚀孔的诱发 | 第16-18页 |
| ·蚀孔的生长 | 第18-21页 |
| ·蚀孔的钝化 | 第21页 |
| ·孔蚀的影响因素 | 第21-24页 |
| ·杂质对孔蚀的影响 | 第21-22页 |
| ·粗糙度对孔蚀的影响 | 第22页 |
| ·侵蚀性离子对孔蚀的影响 | 第22-23页 |
| ·缓蚀剂对孔蚀的影响 | 第23页 |
| ·其他因素对孔蚀的影响 | 第23-24页 |
| ·亚稳态孔蚀向稳定孔蚀的转变 | 第24-28页 |
| ·亚稳态孔蚀之间的相互影响 | 第24-25页 |
| ·亚稳态孔蚀向稳定孔蚀转变的条件 | 第25-27页 |
| ·亚稳孔和稳定孔之间的相互影响 | 第27-28页 |
| ·亚稳态孔蚀的研究手段 | 第28-36页 |
| ·电化学手段 | 第28-32页 |
| ·原位测量技术 | 第32-34页 |
| ·统计分析方法 | 第34-36页 |
| ·本课题的研究意义及主要研究内容 | 第36-38页 |
| ·本课题的研究意义 | 第36页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第36-38页 |
| 第二章 实验方法 | 第38-42页 |
| ·实验材料及试样的制备 | 第38页 |
| ·实验溶液的配置 | 第38页 |
| ·测试方法 | 第38-40页 |
| ·慢速动电位扫描 | 第38-39页 |
| ·恒电位极化 | 第39页 |
| ·动电位回扫 | 第39页 |
| ·扫描电镜测试 | 第39-40页 |
| ·数据处理方法 | 第40-42页 |
| ·亚稳态孔蚀电位 Em和稳定孔蚀电位 Eb的统计 | 第40页 |
| ·亚稳孔波动峰值极值分布的统计 | 第40-41页 |
| ·亚稳孔电流波动 K-I 关系的统计 | 第41-42页 |
| 第三章 氯离子对孔蚀参数的影响 | 第42-66页 |
| ·不同氯离子浓度溶液中亚稳态孔蚀电位参数变化 | 第42-53页 |
| ·Em与 Eb分布直方图 | 第42-44页 |
| ·Em与 Eb统计分布 | 第44-47页 |
| ·氯离子浓度对亚稳孔特征电位的影响 | 第47-50页 |
| ·电流峰不同取值标准对 Em值的影响 | 第50-53页 |
| ·不同氯离子浓度下亚稳态孔蚀电流的变化 | 第53-64页 |
| ·不同恒定电位下峰值电流的极值分布 | 第54-58页 |
| ·不同氯离子浓度中同一恒定电位下峰值电流的极值分布 | 第58-59页 |
| ·恒电位极化下 K-I 关系统计 | 第59-62页 |
| ·特征峰分析 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第四章 粗糙度对孔蚀参数的影响 | 第66-82页 |
| ·不同粗糙度下亚稳态孔蚀电位参数的变化 | 第66-70页 |
| ·Em与 Eb的统计分布 | 第66-67页 |
| ·粗糙度对 Em和 Eb的影响 | 第67-70页 |
| ·不同粗糙度下亚稳态孔蚀电流的变化 | 第70-75页 |
| ·不同粗糙度下恒电位极化亚稳态孔蚀电流峰分析 | 第71-72页 |
| ·粗糙度对极值分布的影响 | 第72-75页 |
| ·不同粗糙度下试样的亚稳态孔蚀形貌 | 第75-80页 |
| ·小结 | 第80-82页 |
| 第五章 PO3-4对孔蚀参数的影响 | 第82-88页 |
| ·含 PO43-体系中 Em和 Eb的统计分布 | 第82-83页 |
| ·PO43-对 Em和 Eb的影响 | 第83-85页 |
| ·PO43-对形核率的影响 | 第85-86页 |
| ·小结 | 第86-88页 |
| 第六章 利用回扫极化曲线研究孔蚀参数的变化 | 第88-101页 |
| ·扫描速率对孔蚀参数的影响 | 第88-90页 |
| ·缓蚀性阴离子对孔蚀参数的影响 | 第90-99页 |
| ·PO43-对孔蚀参数的影响 | 第90-95页 |
| ·WO42-对孔蚀参数的影响 | 第95-99页 |
| ·小结 | 第99-101页 |
| 第七章 总结论 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第109-110页 |
| 作者和导师简介 | 第110-111页 |
| 附件 | 第111-112页 |