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含4-羟基苯乙烯基的嵌段共聚合物在二维有限界面的自组装行为研究

中文摘要第1-12页
英文摘要第12-17页
第一章 绪论第17-43页
   ·前言第17-18页
   ·有序聚集态结构与分子自组装第18-22页
   ·嵌段聚合物与微相分离行为第22-24页
   ·嵌段聚合物分子自组装第24-29页
   ·前人工作小结第29-32页
   ·本文拟开展的工作第32-35页
     ·用于自组装的嵌段共聚物设计中的热力学第32-34页
     ·研究内容第34-35页
   ·参考文献第35-43页
第二章 含 Poly(4-hydroxystyrene)嵌段的二嵌段及三嵌段共聚物的阴离子合成第43-72页
   ·前言第43-47页
   ·实验部分第47-49页
     ·原料及预处理第47-48页
     ·实验装置第48-49页
   ·嵌段聚合物合成步骤第49-50页
     ·阴离子聚合反应第49-50页
     ·脱去特丁基反应第50页
   ·实验结果与讨论第50-53页
   ·产物的表征第53-68页
     ·分子量及分子量分布第53-57页
     ·红外光谱分析第57-65页
     ·DSC 热分析第65-66页
     ·NMR 分析第66-68页
   ·本章小结第68-69页
   ·参考文献第69-72页
第三章 二嵌段聚合物聚(4-羟基苯乙烯-b-异戊二烯)(P(HSt-b-I))在二维有限界面的自组装行为第72-124页
   ·前言第72-73页
   ·二维有限界面嵌段聚合物自组装的实验部分第73-82页
     ·二维有限界面的自组装方式第73-75页
     ·二维有限界面(基底)的选择第75-76页
     ·二维有限界面嵌段聚合物自组装图案结构样品的制备第76-82页
   ·二维有限界面聚(4-羟基苯乙烯-b-异戊二烯)自组装表面图案化的结果与讨论第82-114页
     ·忽略表面自由能差异和相边界能对图案化结构的影响第82页
     ·本文研究中影响形成图案化有序结构的因素第82-114页
       ·不含羟基的二嵌段聚合物在二维有限界面的相态行为第83-91页
       ·含羟基的二嵌段聚合物在二维有限界面的相态行为第91-114页
   ·模型的建立第114-117页
   ·本章小结第117-118页
   ·参考文献第118-124页
第四章 三嵌段聚合物聚(4-羟基苯乙烯-b-异戊二烯-b-八甲基环四硅氧烷)(P(HSt-b-I-b-D4))在二维有限界面自组装导致的有序结构第124-136页
   ·前言第124-125页
   ·实验部分第125页
   ·P(HSt-b-I-b-D4)在二维有限界面的自组装相态行为第125-134页
     ·溶剂为THF的自组装相态行为第125-132页
     ·溶剂为乙腈的自组装相态行为第132-134页
   ·本章小结第134页
   ·参考文献第134-136页
第五章 结果与展望第136-145页
   ·本文取得的主要成果第136-141页
   ·对下阶段工作的展望第141-143页
     ·嵌段聚合物分子的设计第141-142页
     ·外加力场的考虑第142-143页
     ·理论计算与计算机理论模拟第143页
   ·参考文献第143-145页
简历第145-147页
致谢第147-148页
声明第148页

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