| 第1章 绪论 | 第1-15页 |
| ·光学薄膜研究的意义及其发展 | 第8-12页 |
| ·研究光学薄膜的意义 | 第8-10页 |
| ·光学薄膜的发展及其现状 | 第10-12页 |
| ·静电自组装研究的意义及其发展 | 第12-14页 |
| ·本文所作的主要工作 | 第14-15页 |
| 第2章 光学薄膜的设计 | 第15-22页 |
| ·薄膜干涉的理论基础 | 第15-17页 |
| ·薄膜干涉的半波损失 | 第15页 |
| ·薄膜干涉中的额外光程差及光程差 | 第15-16页 |
| ·相干长度 | 第16页 |
| ·薄膜与厚膜 | 第16-17页 |
| ·光学薄膜的理论基础 | 第17-21页 |
| ·光学薄膜的结构 | 第17-20页 |
| ·薄膜的增透作用与其厚度、折射率之间的关系 | 第20页 |
| ·薄膜的增反作用与其厚度、折射率之间的关系 | 第20-21页 |
| ·结论 | 第21-22页 |
| 第3章 SiO_2胶体的制备 | 第22-34页 |
| ·SiO_2胶体的制备 | 第22-29页 |
| ·胶体制备的基础知识 | 第22-23页 |
| ·前驱物的选择 | 第23页 |
| ·溶剂的选择 | 第23-24页 |
| ·催化剂的选择 | 第24-26页 |
| ·溶胶浓度 | 第26页 |
| ·加水制度的确定 | 第26-28页 |
| ·水解温度的确定 | 第28页 |
| ·胶体的制备 | 第28-29页 |
| ·不同催化机理SiO_2溶胶性能的测试及讨论 | 第29-33页 |
| ·溶胶的外观及胶凝时间 | 第29-30页 |
| ·SiO_2溶胶带电性能的讨论 | 第30-31页 |
| ·SiO_2溶胶的颗粒结构分析 | 第31页 |
| ·SiO_2凝胶的差热失重分析 | 第31-32页 |
| ·SiO_2凝胶的红外光谱图 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第4章 ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜的制备 | 第34-51页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·化学试剂及实验设备 | 第35页 |
| ·化学试剂 | 第35页 |
| ·实验设备 | 第35页 |
| ·胶体的制备 | 第35-36页 |
| ·基片的处理 | 第36页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜性能测试及讨论 | 第37-50页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄的TEM图像分析 | 第37-38页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜可见光的透射率随层数的变化 | 第38-42页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜可见光的透射率随波长的变化 | 第42-45页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜的红外光谱分析 | 第45-46页 |
| ·湿度对ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜透光性能的影响 | 第46-48页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜表面的XPS全谱分析 | 第48-49页 |
| ·ESAM PDDA／SiO_2复合薄膜抗机械擦伤强度的研究 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第5章 ESAM SiO_2光学增透膜的制备及其性能测试 | 第51-68页 |
| ·SiO_2增透膜的设计 | 第51-56页 |
| ·单层增透膜的理论基础 | 第51-52页 |
| ·材料的选择 | 第52-54页 |
| ·制备方法的选择 | 第54页 |
| ·ESAM SiO_2增透膜的结构设计 | 第54-56页 |
| ·SiO_2光学增透膜的制备 | 第56-57页 |
| ·SiO_2光学增透膜TEM图像分析 | 第57-58页 |
| ·ESAM SiO_2光学增透膜试验结果及讨论 | 第58-67页 |
| ·ESAM SiO_2光学增透膜的红外光谱研究 | 第58-59页 |
| ·ESAM SiO_2增透膜在热处理过程中透光率随温度的变化 | 第59-63页 |
| ·ESAM SiO_2光学增透膜的XPS研究 | 第63-65页 |
| ·ESAM SiO_2光学增透膜在可见光区的透射率分析 | 第65-66页 |
| ·ESAM SiO_2光学增透膜耐擦伤强度的研究 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第6章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74页 |
