| 1 X光激光概况 | 第1-18页 |
| 1．1 X光激光概念、发展及现状 | 第8-10页 |
| 1．2 X光激光机理 | 第10-14页 |
| 1．2．1 电子碰撞激发 | 第10-13页 |
| 1．2．1．1 电子碰撞激发机理 | 第10-12页 |
| 1．2．1．2 瞬态电子碰撞激发 | 第12-13页 |
| 1．2．2 其它机理简介 | 第13-14页 |
| 1．2．2．1 三体复合 | 第13-14页 |
| 1．2．2．2 共振光激发 | 第14页 |
| 1．3 X光激光应用进展 | 第14-18页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 2 线状等离子体的产生及诊断 | 第18-34页 |
| 2．1 均匀线聚焦系统 | 第18-27页 |
| 2．1．1 几种线聚焦系统的比较 | 第18-21页 |
| 2．1．1．1 单柱面透镜与非球面透镜系统 | 第18-19页 |
| 2．1．1．2 相对旋转负柱面透镜线聚焦系统 | 第19页 |
| 2．1．1．3 离轴球面反射镜系统 | 第19-20页 |
| 2．1．1．4 柱面透镜列阵与非球面镜线聚焦系统 | 第20页 |
| 2．1．1．5 单柱面透镜与列阵光劈系统 | 第20-21页 |
| 2．1．2 神光上的线聚焦系统 | 第21-22页 |
| 2．1．3 两路上的线聚焦系统 | 第22-27页 |
| 2．1．3．1 线聚焦系统 | 第22页 |
| 2．1．3．2 行波泵浦 | 第22-27页 |
| 2．2 线状等离子体均匀性诊断 | 第27-34页 |
| 2．2．1 双狭缝相机工作原理 | 第27-29页 |
| 2．2．2 双狭缝相机在X光激光出光实验中的应用 | 第29-34页 |
| 2．2．2．1 焦线沿长度方向上的均匀性 | 第29-31页 |
| 2．2．2．2 垂直靶面方向的双靶对接情况 | 第31-34页 |
| 3 软X光光学元件的标定 | 第34-58页 |
| 3．1 软X光光学元件的制备 | 第34-36页 |
| 3．1．1 滤片的设计 | 第35页 |
| 3．1．2 滤片的制备 | 第35页 |
| 3．1．3 多层膜反射镜的设计 | 第35-36页 |
| 3．1．4 多层膜反射镜的制备 | 第36页 |
| 3．2 反射率计 | 第36-43页 |
| 3．2．1 软X射线源 | 第37-38页 |
| 3．2．2 单色仪 | 第38-42页 |
| 3．2．2．1 凹面光栅单色仪 | 第39-40页 |
| 3．2．2．2 平面光栅单色仪 | 第40-41页 |
| 3．2．2．3 轮胎形光栅单色仪 | 第41-42页 |
| 3．2．3 探测器 | 第42页 |
| 3．2．4 北京同步辐射装置上的反射率计 | 第42-43页 |
| 3．3 单发实验测量 | 第43-47页 |
| 3．3．1 单发实验测量的实现 | 第43-44页 |
| 3．3．2 高级次谱问题 | 第44-47页 |
| 3．4 滤片透过率的标定 | 第47-52页 |
| 3．4．1 实验 | 第48-49页 |
| 3．4．2 结果和讨论 | 第49-52页 |
| 3．4．2．1 激光等离子体源上的单发实验标定结果 | 第49-50页 |
| 3．4．2．2 同步辐射测量结果 | 第50-51页 |
| 3．4．2．3 杂质的影响 | 第51页 |
| 3．4．2．4 砂眼的影响 | 第51-52页 |
| 3．5 多层膜反射镜的刻度 | 第52-55页 |
| 3．5．1 实验 | 第52-54页 |
| 3．5．2 结果和讨论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 4 X光激光及其应用 | 第58-76页 |
| 4．1 X光激光饱和输出 | 第58-62页 |
| 4．2 探针法诊断激光等离子体电子密度 | 第62-75页 |
| 4．2．1 莫尔偏折法 | 第64-69页 |
| 4．2．1．1 莫尔偏折仪工作原理 | 第65-67页 |
| 4．2．1．2 实验 | 第67-69页 |
| 4．2．2 条纹处理 | 第69-73页 |
| 4．2．2．1 去噪声 | 第69-70页 |
| 4．2．2．2 骨架提取 | 第70-71页 |
| 4．2．2．3 电子密度分布 | 第71-73页 |
| 4．2．3 干涉法简介 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-76页 |
| 5 总结 | 第76-78页 |
| 发表文章目录 | 第78-79页 |
| 致 谢 | 第79-80页 |
| 简 历 | 第80页 |