| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·银纳米颗粒 | 第11-16页 |
| ·纳米颗粒的定义及特性 | 第11-12页 |
| ·银纳米颗粒的应用 | 第12-13页 |
| ·银纳米颗粒的制备方法 | 第13-16页 |
| ·黒硅材料 | 第16-19页 |
| ·黒硅的结构特点及应用 | 第16-17页 |
| ·黒硅的制备方法 | 第17-19页 |
| ·研究背景 | 第19-20页 |
| ·本论文的立题思想、研究内容和意义 | 第20-22页 |
| 第二章 制备方法与表征手段 | 第22-33页 |
| ·磁控溅射 | 第22-24页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·设备简介 | 第23-24页 |
| ·反应离子刻蚀 | 第24-27页 |
| ·刻蚀原理 | 第24-25页 |
| ·设备简介 | 第25-27页 |
| ·分析表征方法 | 第27-33页 |
| ·台阶仪 | 第27页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第27-28页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第28-29页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第29-30页 |
| ·反射率测试 | 第30页 |
| ·少子寿命测试仪 | 第30-31页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第31-33页 |
| 第三章 磁控溅射制备银纳米颗粒及其表征 | 第33-43页 |
| ·基片清洗 | 第33页 |
| ·溅射功率、气压对 AG NPS 膜的影响 | 第33-36页 |
| ·溅射时间对 AG NPS 膜的影响 | 第36-38页 |
| ·热处理对 AG NPS 膜的影响 | 第38-41页 |
| ·基片温度对 AG NPS 膜的影响 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第四章 银纳米颗粒作为微掩膜反应离子刻蚀制备黒硅材料 | 第43-54页 |
| ·实验步骤 | 第43-45页 |
| ·实验结果与讨论 | 第45-53页 |
| ·有无 Ag NPs 作掩膜制绒后样品的特性 | 第45-47页 |
| ·表面形貌与刻蚀时间 | 第47-49页 |
| ·反射率与刻蚀时间的关系 | 第49-52页 |
| ·刻蚀损伤与少数载流子寿命 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第五章 SI 衬底上 C 轴择优 AG/PT 双层膜制备及表征 | 第54-62页 |
| ·SI 衬底上直接制备 AG/PT 双层膜及表征 | 第55-57页 |
| ·HF 酸处理的 SI 衬底上制备 AG/PT 双层膜及表征 | 第57-59页 |
| ·衬底温度对 HF 酸处理的 SI 衬底上 AG/PT 双层膜的影响 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士期间公开发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
