| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-40页 |
| ·选题背景及意义 | 第10-11页 |
| ·气敏传感器的定义与分类 | 第11-13页 |
| ·气敏传感器的应用 | 第13-14页 |
| ·气敏传感器的工作原理 | 第14-18页 |
| ·气敏传感器的主要特性参数及表征 | 第18-21页 |
| ·气敏传感器的研究进展 | 第21-31页 |
| ·国内外气敏传感器的研究现状和市场前景 | 第23-25页 |
| ·气敏传感器在研究中存在的问题和发展趋势 | 第25-27页 |
| ·一维纳米氧化物气敏传感器的研究进展 | 第27-31页 |
| ·氧化钨基气敏传感器的研究进展 | 第31-37页 |
| ·一维纳米结构氧化钨的制备方法 | 第31-34页 |
| ·氧化钨基气敏传感器的研究进展及存在的问题 | 第34-37页 |
| ·本课题的选题依据和主要研究内容 | 第37-40页 |
| 第2章 实验原料与测试方法 | 第40-50页 |
| ·实验用原材料和试剂 | 第40-41页 |
| ·样品的制备 | 第41-45页 |
| ·氧化钨纳米线气敏材料的制备 | 第41-42页 |
| ·氧化钨纳米线气敏元件的制备 | 第42-45页 |
| ·材料的表征 | 第45-47页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第45页 |
| ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第45页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第45-46页 |
| ·X 射线衍射仪(XRD) | 第46页 |
| ·BET 比表面积 | 第46页 |
| ·显微共聚焦Raman 光谱 | 第46页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS) | 第46-47页 |
| ·气敏性能测试系统 | 第47-48页 |
| ·气敏性能测试方法 | 第48-50页 |
| 第3章 氧化钨纳米线的制备、表征和形成机理 | 第50-74页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·水热法制备氧化钨纳米线 | 第50-51页 |
| ·氧化钨纳米线的表征 | 第51-55页 |
| ·钨酸钠含量对产物的影响 | 第55-58页 |
| ·盐酸含量对产物的影响 | 第58-61页 |
| ·水热反应温度对产物的影响 | 第61-64页 |
| ·水热反应时间对产物的影响 | 第64-67页 |
| ·氧化钨纳米线的热稳定性研究 | 第67-72页 |
| ·本章小结 | 第72-74页 |
| 第4章 氧化钨纳米线的成膜工艺及气敏性能研究 | 第74-93页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·氧化钨纳米线浆料的制备工艺研究 | 第74-77页 |
| ·氧化钨纳米线敏感膜的热处理工艺研究 | 第77-81页 |
| ·电极材料对氧化钨纳米线气敏性能的影响 | 第81-83页 |
| ·不同热处理温度的敏感膜对气敏性能的影响 | 第83-87页 |
| ·AAO 辅助的氧化钨纳米线敏感膜的制备及应用展望 | 第87-91页 |
| ·本章小结 | 第91-93页 |
| 第5章 氧化钨纳米线气敏性能的研究 | 第93-117页 |
| ·引言 | 第93-94页 |
| ·氧化钨纳米线敏感膜对H2 的气敏性能研究 | 第94-100页 |
| ·氧化钨纳米线敏感膜对NH3 的气敏性能研究 | 第100-107页 |
| ·氧化钨纳米线敏感膜对CO 的气敏性能研究 | 第107-113页 |
| ·氧化钨纳米线敏感膜对H2、NH3 和CO 气体的选择性研究 | 第113-115页 |
| ·本章小结 | 第115-117页 |
| 第6章 氧化钨敏感膜的气氛修饰及其对CO 的气敏性能 | 第117-125页 |
| ·引言 | 第117页 |
| ·氧化钨敏感膜的制备与表征 | 第117-120页 |
| ·氧化钨敏感膜的气氛修饰及对CO 的气敏性能 | 第120-124页 |
| ·本章小结 | 第124-125页 |
| 结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第145-146页 |
