电沉积铜镍纳米多层膜及其性能研究
| 中文摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·纳米材料概述 | 第10-15页 |
| ·纳米材料简介 | 第10页 |
| ·纳米材料特性 | 第10-15页 |
| ·纳米金属多层膜概述 | 第15页 |
| ·纳米多层膜的物理制备方法 | 第15-17页 |
| ·离子束溅射法 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16页 |
| ·电弧阴极法 | 第16-17页 |
| ·物理蒸镀法 | 第17页 |
| ·分子束外延成型 | 第17页 |
| ·电沉积法制备纳米多层膜 | 第17-21页 |
| ·单槽法 | 第18-19页 |
| ·双槽法 | 第19-20页 |
| ·两种方法比较 | 第20-21页 |
| ·纳米金属多层膜的性质 | 第21-23页 |
| ·纳米金属多层膜的机械性能 | 第21页 |
| ·纳米金属多层膜的电化学性能 | 第21页 |
| ·纳米金属多层膜的电学性能 | 第21-22页 |
| ·纳米金属多层膜的光学性能 | 第22页 |
| ·纳米多层膜的巨磁阻效应 | 第22-23页 |
| ·纳米金属多层膜的应用 | 第23-26页 |
| ·GMR磁头 | 第24-25页 |
| ·GMR随机存储器 | 第25页 |
| ·GMR传感器 | 第25-26页 |
| ·金属多层膜存在的主要问题 | 第26-27页 |
| ·本论文工作 | 第27-28页 |
| 第二章 实验方法 | 第28-38页 |
| ·多层膜的制备 | 第28-32页 |
| ·实验药品 | 第28页 |
| ·实验仪器 | 第28-29页 |
| ·实验装置图 | 第29页 |
| ·电镀工艺 | 第29页 |
| ·工艺流程 | 第29页 |
| ·实验方法 | 第29-32页 |
| ·多层膜结构及组成表征 | 第32-33页 |
| ·SEM分析 | 第32页 |
| ·XRD分析 | 第32-33页 |
| ·多层膜厚度的确定 | 第33页 |
| ·巨磁电阻性能测试 | 第33-35页 |
| ·硬度测试 | 第35-36页 |
| ·多层膜电化学性能测试 | 第36页 |
| ·镀层腐蚀行为研究 | 第36页 |
| ·催化析氢性能研究 | 第36页 |
| ·镀层磁性能测试 | 第36-38页 |
| 第三章 结果和讨论 | 第38-59页 |
| ·多层膜SEM | 第38-41页 |
| ·断面 | 第38-39页 |
| ·多层膜表面SEM分析 | 第39页 |
| ·多层膜的XRD图谱 | 第39-41页 |
| ·多层膜沉积机理分析 | 第41-45页 |
| ·循环伏安曲线的测量 | 第41-42页 |
| ·交流阻抗的测量 | 第42-43页 |
| ·脉冲电流时间曲线 | 第43-44页 |
| ·脉冲电压电流曲线测量 | 第44页 |
| ·多层膜沉积机理小结 | 第44-45页 |
| ·多层膜硬度测试 | 第45-49页 |
| ·铜、镍、铜/镍多层膜硬度比较 | 第45页 |
| ·调制波长对多层膜硬度的影响 | 第45-47页 |
| ·铜镍比例对多层膜硬度的影响 | 第47页 |
| ·不同周期对多层膜硬度的影响 | 第47-48页 |
| ·多层膜硬度的理论解释 | 第48-49页 |
| ·Cu/Ni多层膜电化学性能测试 | 第49-51页 |
| ·多层膜的电化学腐蚀行为 | 第49-51页 |
| ·多层膜催化析氢行为 | 第51页 |
| ·多层膜巨磁电阻效应 | 第51-57页 |
| ·Cu/Ni多层膜的GMR效应 | 第51-52页 |
| ·调制波长对GMR的影响 | 第52-53页 |
| ·铜、镍层的子层厚度对GMR性能的影响 | 第53-55页 |
| ·周期数对GMR性能的影响 | 第55页 |
| ·多层膜GMR效应解释 | 第55-57页 |
| ·多层膜磁性能研究 | 第57-59页 |
| 第四章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第65页 |
