电弧离子镀氮化钛、氮化铬薄膜制备及特性研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·薄膜气相沉积方法 | 第9-20页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第9-10页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第10-20页 |
| ·TiN、CrN_x薄膜的应用和研究现状综述 | 第20页 |
| ·TiN薄膜的应用和研究现状 | 第20页 |
| ·CrN_x薄膜的应用和研究现状 | 第20页 |
| ·本课题的目的,意义和内容 | 第20-22页 |
| ·研究的目的和意义 | 第20-21页 |
| ·研究的内容 | 第21-22页 |
| 第二章 薄膜制备工艺及检测手段 | 第22-28页 |
| ·实验工艺及参数 | 第22-23页 |
| ·电弧离子镀膜装置 | 第22页 |
| ·基片的制备及前处理 | 第22-23页 |
| ·基本工艺步骤及工艺参数 | 第23页 |
| ·检测手段 | 第23-28页 |
| ·HXD-1000TMC显微硬度计 | 第23-24页 |
| ·JB-4C表面轮廓仪 | 第24页 |
| ·D/MAX-ⅢcX射线衍射仪 | 第24-25页 |
| ·划痕仪 | 第25页 |
| ·球-盘式摩擦磨损实验机 | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26-27页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS) | 第27-28页 |
| 第三章 薄膜的结构和力学性能分析 | 第28-33页 |
| ·TiN薄膜结构及力学性能分析 | 第28-29页 |
| ·TiN薄膜显微硬度、厚度和表面粗糙度分析 | 第28页 |
| ·TiN薄膜XRD分析 | 第28页 |
| ·TiN薄膜膜基结合力分析 | 第28-29页 |
| ·CrN_x薄膜结构及力学性能分析 | 第29-31页 |
| ·CrN_x薄膜显微硬度、厚度和表面粗糙度分析 | 第29-30页 |
| ·CrNx薄膜XRD分析 | 第30页 |
| ·CrNx薄膜膜基结合力分析 | 第30-31页 |
| ·TiN和CrNx薄膜结构及力学性能对比分析 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 摩擦参数对薄膜的摩擦学特性影响 | 第33-40页 |
| ·摩擦参数对TiN薄膜摩擦学特性影响 | 第33-37页 |
| ·速度对TiN薄膜摩擦系数的影响 | 第33页 |
| ·载荷对TiN薄膜摩擦系数的影响 | 第33-34页 |
| ·配副件对TiN薄膜磨痕形貌和化学元素的影响 | 第34-37页 |
| ·摩擦参数对CrNx薄膜摩擦学特性影响 | 第37-38页 |
| ·速度对CrNx薄膜摩擦系数的影响 | 第37页 |
| ·载荷对CrNx薄膜摩擦系数的影响 | 第37-38页 |
| ·配副件对CrNx薄膜磨痕形貌的影响 | 第38页 |
| ·TiN和CrN_x薄膜摩擦学特性对比分析 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 环境介质对薄膜摩擦学特性的影响 | 第40-47页 |
| ·环境介质对TiN薄膜摩擦学特性的影响 | 第40-43页 |
| ·环境介质对TiN薄膜摩擦系数的影响 | 第40页 |
| ·环境介质对TiN薄膜磨痕形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·环境介质对TiN薄膜磨痕处化学元素的影响 | 第42-43页 |
| ·环境介质对CrNx薄膜摩擦学特性的影响 | 第43-45页 |
| ·环境介质对CrNx薄膜的摩擦系数的影响 | 第43页 |
| ·环境介质对CrNx薄膜的磨痕形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·TiN和CrNx薄膜摩擦学特性对比分析 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第六章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 硕士期间发表论文与参加项目 | 第53页 |
