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基于CMOS工艺压控振荡器和低噪声放大器研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
第1章 绪论第9-12页
   ·研究目的和意义第9页
   ·国内外研究现状和发展趋势第9-11页
   ·论文的主要工作和内容安排第11-12页
第2章 CMOS 工艺中的电容和电感第12-21页
   ·CMOS 工艺中的电容第12-16页
     ·片上变容管第13-16页
   ·CMOS 工艺中的电感第16-21页
     ·CMOS 工艺中的电感模型第17-18页
     ·电感的Q 值第18-19页
     ·提高电感Q 值的方法第19-21页
第3章 压控振荡器理论概述第21-26页
   ·压控振荡器基本架构和原理第21-22页
   ·VCO 基本性能参数第22-26页
     ·调谐增益第22-23页
     ·振荡幅度第23-24页
     ·相位噪声第24-26页
第4章 VCO 调谐增益优化第26-32页
   ·降低调谐增益的方法第26-28页
   ·调谐增益的稳定技术第28-32页
     ·控制电感值变化第28-29页
     ·采用可变电容阵列第29-32页
第5章 压控振荡器具体实现第32-41页
   ·宽带LC VCO 电路分析与设计第32-35页
     ·开关电容阵列设计第33-34页
     ·开关可变电容阵列设计第34页
     ·相位噪声优化设计第34-35页
   ·环形VCO 电路分析与设计第35-37页
     ·电压基准源设计第36-37页
   ·仿真结果及版图设计第37-40页
   ·总结第40-41页
第6章 射频放大器理论概述第41-56页
   ·放大器的主要技术指标第41-49页
     ·S 参数第41-44页
     ·噪声第44-47页
     ·非线性失真第47-49页
     ·稳定性第49页
   ·放大器的结构第49-56页
     ·并联输入电阻共源结构第50-51页
     ·共栅结构第51-52页
     ·并联-串联反馈结构第52-53页
     ·源简并共源型结构第53-54页
     ·带通滤波器放大器结构第54-55页
     ·分布式结构第55-56页
第7章 增益可调技术第56-59页
   ·基本概念第56页
   ·增益可调技术第56-59页
     ·旁路选择第56-57页
     ·反馈第57-58页
     ·电流分离技术第58-59页
第8章 增益可调宽带低噪声放大器具体实现第59-67页
   ·电路分析与设计第59-63页
     ·匹配网络设计第59-61页
     ·增益控制设计第61-62页
     ·提高线性度优化设计第62-63页
   ·仿真结果及版图设计第63-66页
   ·总结第66-67页
第9章 结束语第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-74页
附录第74页

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