氮化硅薄膜制备及其相关特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·太阳能电池的意义及发展现状 | 第9-11页 |
| ·太阳能电池的意义 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池的发展现状 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池的原理 | 第11-12页 |
| ·氮化硅减反射薄膜在太阳能电池上应用 | 第12-15页 |
| ·氮化硅减反射薄膜的发展 | 第12-14页 |
| ·减反射薄膜的原理 | 第14-15页 |
| ·氮化硅薄膜的性质与制备方法 | 第15-20页 |
| ·氮化硅薄膜的性质 | 第15-16页 |
| ·与常用减反射膜的比较 | 第16-18页 |
| ·氮化硅薄膜的制备方法 | 第18-20页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第20-21页 |
| 2 氮化硅薄膜的制备及表征 | 第21-31页 |
| ·ECR-PECVD法制备氮化硅薄膜 | 第21-25页 |
| ·ECR-PECVD系统的原理 | 第21-22页 |
| ·ECR-PECVD系统 | 第22-25页 |
| ·氮化硅薄膜的表征 | 第25-31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第25-26页 |
| ·傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第26页 |
| ·X光电子能谱(XPS) | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27-28页 |
| ·偏振光椭圆率测量仪 | 第28-31页 |
| 3 实验设计 | 第31-35页 |
| ·减反射薄膜设计的注意事项 | 第31-32页 |
| ·基底材料、硅源、氮气的优选 | 第32-33页 |
| ·基底材料的选择 | 第32页 |
| ·硅源的选择 | 第32-33页 |
| ·氮气的选择 | 第33页 |
| ·基片的清洗 | 第33页 |
| ·实验的目标 | 第33-35页 |
| 4 氮化硅薄膜结构性能分析 | 第35-56页 |
| ·氮化硅薄膜生长结构研究 | 第35-42页 |
| ·薄膜的XRD衍射分析 | 第35-36页 |
| ·薄膜的FTIR分析 | 第36-37页 |
| ·薄膜的XPS分析 | 第37-42页 |
| ·影响氮化硅薄膜性能的因素 | 第42-51页 |
| ·气体流量对氮化硅薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| ·沉积温度对氮化硅薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
| ·沉积时间对氮化硅薄膜性能的影响 | 第49-50页 |
| ·微波功率对氮化硅薄膜性能的影响 | 第50-51页 |
| ·氮化硅薄膜的表面形貌分析 | 第51-54页 |
| ·沉积温度对氮化硅薄膜表面形貌的影响 | 第51-53页 |
| ·微波功率对氮化硅薄膜表面形貌的影响 | 第53-54页 |
| ·氮化硅薄膜制备参数的优化 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
