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双通道单刀双掷模拟开关的设计

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-17页
   ·微电子技术发展现状及趋势第9-12页
     ·微电子技术发展水平第9-10页
     ·微电子技术发展方向第10-12页
   ·模拟开关的应用和发展趋势第12-14页
     ·模拟开关的应用第12-14页
     ·模拟开关的前景展望第14页
   ·本论文的主要工作第14-17页
第二章 MOS晶体管和MOS开关第17-35页
   ·MOS管的结构和特性第17-26页
     ·MOSFET的结构第17-18页
     ·阈值电压第18-20页
     ·线性区第20-22页
     ·饱和区第22-23页
     ·沟道长度调制第23-24页
     ·体效应第24-25页
     ·亚阈值导电性第25-26页
   ·MOS开关第26-34页
     ·MOSFETs开关第26-27页
     ·沟道导通电阻第27-30页
     ·沟道电荷注入第30-32页
     ·时钟馈通第32页
     ·KT/C噪音第32-33页
     ·电荷注入抵消第33-34页
   ·本章小结第34-35页
第三章 单刀双掷模拟开关电路的设计第35-53页
   ·开关电路设计第35-37页
   ·驱动电路设计第37-38页
   ·缓冲电路设计第38-43页
     ·输出缓冲电路的设计第39-41页
     ·输入缓冲电路的设计第41-43页
   ·静电保护电路设计第43-51页
     ·ESD的测试和保护第43-44页
     ·ESD保护电路设计第44-51页
   ·本章小结第51-53页
第四章 芯片仿真和版图设计第53-67页
   ·电路仿真及仿真结果第55-61页
     ·开关时间(Switching Time)的仿真第55-57页
     ·导通前先断开转换(Break-Before-Make Interval)时间的仿真第57页
     ·电荷注入(Charge Injection)的仿真第57-59页
     ·导通电阻(RON)的仿真第59-61页
   ·版图设计第61-65页
     ·设计规则检查(DRC)第61-64页
     ·版图电路比较(LVS)第64-65页
   ·本章小结第65-67页
第五章 总结和展望第67-69页
致谢第69-71页
参考文献第71-74页

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