中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-25页 |
·金刚石的晶体结构 | 第8-9页 |
·金刚石的性质 | 第9-12页 |
·金刚石的力学和声学性质 | 第9-10页 |
·金刚石的热学性质 | 第10页 |
·金刚石的光学性质 | 第10页 |
·金刚石的电学性质 | 第10-11页 |
·金刚石的化学性质 | 第11页 |
·金刚石的其他性质 | 第11-12页 |
·金刚石的分类 | 第12页 |
·人工合成金刚石的历史 | 第12-14页 |
·微波等离子体 CVD 技术简介 | 第14-17页 |
·微波等离子体 CVD 法 | 第14-15页 |
·金刚石 CVD 过程中的生长和反应基团 | 第15-17页 |
·原子氢的作用 | 第17页 |
·CVD 金刚石单晶 | 第17-24页 |
·CH4浓度对 CVD金刚石单晶生长的影响 | 第18-19页 |
·微波能量密度对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第19-20页 |
·籽晶托对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第20-21页 |
·籽晶对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第21-22页 |
·CVD 金刚石单晶 step-flow 生长模式 | 第22页 |
·N_2及温度对 CVD金刚石单晶生长的影响 | 第22-23页 |
·O2对 CVD金刚石单晶生长的影响 | 第23-24页 |
·大尺寸 CVD 金刚石单晶生长 | 第24页 |
·论文的选题及主要研究内容 | 第24-25页 |
第二章 实验设备及表征方法 | 第25-30页 |
·实验设备 | 第25-26页 |
·CVD 金刚石单晶的生长参数 | 第26-27页 |
·金刚石的表征技术 | 第27-30页 |
第三章 引入 N_2、O2气体对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第30-39页 |
·引言 | 第30页 |
·氮对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第30-35页 |
·实验 | 第30-31页 |
·氮对金刚石生长速率的影响 | 第31-32页 |
·氮对金刚石表面化学的影响 | 第32-33页 |
·氮对金刚石质量的影响 | 第33-35页 |
·氧对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第35-38页 |
·实验 | 第35-36页 |
·氧对金刚石生长速率的影响 | 第36页 |
·氧对金刚石表面化学的影响 | 第36-37页 |
·氧对金刚石质量的影响 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
第四章 引入 N_2O 气体对 CVD 金刚石单晶生长的影响 | 第39-49页 |
·引言 | 第39页 |
·实验 | 第39-40页 |
·N_2O 对 CVD 金刚石单晶生长速率的影响 | 第40-41页 |
·添加 N_2O 反应气氛 OES 研究 | 第41-43页 |
·CVD 金刚石单晶样品的 Raman 光谱 | 第43-44页 |
·光致发光(PL)光谱研究 | 第44-46页 |
·金刚石单晶的原子力显微镜(AFM)研究 | 第46-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第五章 全文总结 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-58页 |
在学期间所取得的科研成果 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |