微束微区X射线探针分析仪的基本参数法定量分析研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 引言 | 第11-17页 |
·选题来源及意义 | 第11页 |
·课题来源 | 第11页 |
·研究意义 | 第11页 |
·国内外研究现状 | 第11-16页 |
·主要研究内容 | 第16-17页 |
第2章 X 射线荧光定量分析的理论基础 | 第17-24页 |
·一次荧光强度的计算 | 第17-20页 |
·单色X 射线激发时一次荧光强度计算 | 第17-19页 |
·多色X 射线激发时一次荧光强度计算 | 第19-20页 |
·二次荧光强度计算 | 第20-21页 |
·单色X 射线激发时二次荧光强度计算 | 第20-21页 |
·多色X 射线激发时二次荧光强度计算 | 第21页 |
·X 射线荧光相对强度理论计算 | 第21-22页 |
·几个重要参数 | 第22-24页 |
·激发因子—E | 第22页 |
·X 光管原级谱的强度分布 | 第22-23页 |
·谱仪的几何因子 | 第23-24页 |
第3章 X 射线荧光分析中重要基本参数 | 第24-35页 |
·X 射线吸收特性 | 第24-28页 |
·X 射线的吸收 | 第24-26页 |
·质量吸收系数 | 第26-28页 |
·荧光产额 | 第28-29页 |
·谱线分数 | 第29-30页 |
·吸收限跃迁因子 | 第30-32页 |
·吸收限突变 | 第30-32页 |
·吸收限跃迁因子 | 第32页 |
·特征X 射线能量 | 第32-33页 |
·轨道电子结合能和临界激发能 | 第33页 |
·X 射线能量与其波长的关系 | 第33-34页 |
·等效原子序数 | 第34-35页 |
第4章 X 射线荧光基本参数法定量分析 | 第35-42页 |
·基体效应 | 第35-37页 |
·原级射线强度分布 | 第37-39页 |
·谱峰重叠问题的解决 | 第39-40页 |
·基本参数法的计算方法 | 第40-42页 |
第5章 基本参数法程序的设计 | 第42-49页 |
·程序框图和流程图介绍 | 第42-43页 |
·程序框图及其内容介绍 | 第42页 |
·程序执行流程图 | 第42-43页 |
·程序中重要计算模块源代码和内容介绍 | 第43-49页 |
第6章 定量分析实验及应用效果 | 第49-65页 |
·仪器和实验条件 | 第49-52页 |
·微区分析仪 | 第49页 |
·X 光管 | 第49-50页 |
·Si-PIN 探测器 | 第50-51页 |
·样品制备技术 | 第51-52页 |
·标样的配制 | 第52页 |
·定量分析实验及讨论 | 第52-55页 |
·合金样准确度实验 | 第52-53页 |
·地质样准确度实验 | 第53-55页 |
·应用效果 | 第55-63页 |
·精确度实验 | 第63-65页 |
结论 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-71页 |
攻读学位期间取得学术成果 | 第71页 |