氮化碳基光催化材料的制备及其光催化性能研究

摘要第7-9页
Abstract第9-12页
符号说明第12-13页
第1章绪论第13-33页
    1.1研究背景及意义第13-14页
    1.2半导体的光催化反应机理及影响参数第14-19页
        1.2.1光催化机理第14-17页
        1.2.2光催化的影响参数第17-19页
    1.3石墨烯型氮化碳(g-C3N4)的研究概述第19-31页
        1.3.1g-C3N4的晶体结构第19-20页
        1.3.2g-C3N4的制备第20-21页
        1.3.3g-C3N4光催化性能的优化第21-28页
        1.3.4g-C3N4基复合光催化剂的潜在应用第28-31页
    1.4论文选题思路及主要研究内容第31-33页
        1.4.1选题思路第31-32页
        1.4.2主要研究内容第32-33页
第2章实验与分析第33-38页
    2.1实验中主要化学试剂第33页
    2.2材料基本物性表征第33-35页
        2.2.1X射线衍射(XRD)第33-34页
        2.2.2扫描电子显微镜(SEM)与透射电子显微镜(TEM)第34页
        2.2.3红外光谱(FTIR)第34页
        2.2.4紫外-可见漫反射光谱(DRS)第34页
        2.2.5荧光光谱(PL)第34页
        2.2.6比表面积及孔径分析第34页
        2.2.7X射线光电子能谱(XPS)第34-35页
        2.2.8瞬态光电流和阻抗测试(EIS)第35页
    2.3光催化评价系统第35-38页
        2.3.1光降解染料实验装置第35-36页
        2.3.2光催化分解水产氢实验装置第36-38页
第3章热聚合法制备g-C3N4光催化剂第38-47页
    3.1引言第38页
    3.2实验部分第38-39页
        3.2.1不同前驱体制备g-C3N4第38页
        3.2.2不同煅烧温度制备g-C3N4第38页
        3.2.3超薄g-C3N4的制备第38-39页
    3.3结果与讨论第39-45页
        3.3.1不同前驱体、不同温度制备的g-C3N4产率第39页
        3.3.2不同前驱体制得g-C3N4的形貌观察第39-40页
        3.3.3不同煅烧温度下g-C3N4的光催化性能研究第40-42页
        3.3.4超薄g-C3N4的形貌调控第42-43页
        3.3.5g-C3N4的光催化性能评估第43-45页
    3.4本章小结第45-47页
第4章生物炭改性g-C3N4光催化剂的光催化性能优化第47-61页
    4.1引言第47-48页
    4.2实验部分第48页
    4.3结果与讨论第48-60页
        4.3.1XRD衍射图第48-49页
        4.3.2形貌表征第49-51页
        4.3.3XPS化学形态分析第51-52页
        4.3.4紫外-可见漫反射光谱图第52-53页
        4.3.5红外光谱图第53-54页
        4.3.6比表面积及孔径测试第54-55页
        4.3.7光催化活性测试第55-57页
        4.3.8光催化机理讨论第57-60页
    4.4本章小结第60-61页
第5章g-C3N4插层化合物的制备与光催化产氢性能研究第61-74页
    5.1引言第61页
    5.2实验部分第61-62页
    5.3结果与讨论第62-73页
        5.3.1形貌观察第62-63页
        5.3.2XRD谱图第63-64页
        5.3.3红外图谱第64-65页
        5.3.4XPS光谱图第65-67页
        5.3.5插层氮化碳的光学性质及其光催化产氢性能研究第67-72页
        5.3.6光催化机理第72-73页
    5.4本章小结第73-74页
结论与展望第74-76页
参考文献第76-100页
攻读学位期间取得的研究成果第100-101页
致谢第101页

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