| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-13页 |
| 1 绪论 | 第13-28页 |
| ·激光晶体与紫外激光材料 | 第13-17页 |
| ·激光晶体的概述 | 第13-15页 |
| ·激光晶体的应用前景 | 第15-16页 |
| ·紫外激光概述 | 第16-17页 |
| ·激光晶体的物理基础 | 第17-21页 |
| ·激光物理的概述 | 第17-18页 |
| ·激光晶体的光谱特性 | 第18-21页 |
| ·晶体的生长方法与理论 | 第21-25页 |
| ·晶体生长方法 | 第22-23页 |
| ·晶体生长理论 | 第23-25页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第25-28页 |
| ·课题研究的主要目标 | 第25-26页 |
| ·课题研究的主要技术难点 | 第26页 |
| ·本课题研究的主要实验技术方案 | 第26-28页 |
| 2 LiCaAlF_6单晶的坩埚下降生长 | 第28-51页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·绪论 | 第28-30页 |
| ·LiCaAlF_6晶体 | 第28-29页 |
| ·研究的背景及意义 | 第29-30页 |
| ·原料制备 | 第30-33页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验过程 | 第30-32页 |
| ·结果分析 | 第32-33页 |
| ·单晶生长设备 | 第33-35页 |
| ·高温氟化烧结工艺及坩埚制备密封技术 | 第35-38页 |
| ·高温氟化烧结工艺 | 第35-36页 |
| ·坩埚制备密封技术 | 第36-38页 |
| ·LiCaAlF_6单晶生长 | 第38-42页 |
| ·自发成核生长 | 第38-40页 |
| ·接种生长 | 第40-41页 |
| ·晶体形貌 | 第41-42页 |
| ·LiCaAlF_6 单晶生长的影响因素 | 第42-47页 |
| ·LiCaAlF_6单晶生长习性 | 第42-43页 |
| ·接种生长 | 第43-45页 |
| ·温场的控制 | 第45-46页 |
| ·坩埚的密封 | 第46页 |
| ·坩埚尺寸和下降速率的选择 | 第46-47页 |
| ·高温氟化处理 | 第47页 |
| ·LiCaAlF_6单晶的坩埚下降法生长工艺总结 | 第47-48页 |
| ·LiCaAlF_6单晶的表征 | 第48-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 3 Ce~(3+):LiCaAlF_6单晶的坩埚下降法生长 | 第51-64页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·绪论 | 第52-55页 |
| ·Ce~3+：LiCaAlF_6晶体 | 第52-54页 |
| ·研究背景及意义 | 第54-55页 |
| ·原料制备 | 第55-56页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验过程 | 第55-56页 |
| ·结果分析 | 第56页 |
| ·Ce~(3+):LiCaAlF_6单晶生长 | 第56-58页 |
| ·晶体形貌 | 第58页 |
| ·Ce~(3+):LiCaAlF_6单晶坩埚下降法生长工艺的总结 | 第58-59页 |
| ·新型氟化物激光晶体 Ce~(3+):LiCaAlF_6的光谱性质 | 第59-62页 |
| ·X 射线粉末衍射分析 | 第59-60页 |
| ·透射光谱 | 第60页 |
| ·红外光谱 | 第60-61页 |
| ·荧光光谱 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 4 LiCaAlF_6 晶体的加工 | 第64-69页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·实时退火工艺 | 第64-65页 |
| ·晶体定向 | 第65-66页 |
| ·晶体切割 | 第66页 |
| ·晶体研磨抛光 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-69页 |
| 5 结论 | 第69-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 在学研究成果 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
