反应气氛调控钛氧系薄膜成分、结构及抗菌性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 前言 | 第9页 |
| 1.2 TiO_2的光催化原理及应用 | 第9-11页 |
| 1.2.1 TiO_2的光催化原理 | 第9-10页 |
| 1.2.2 TiO_2的光催化应用 | 第10-11页 |
| 1.3 TiO_2薄膜的制备方法 | 第11-12页 |
| 1.3.1 溶胶-凝胶法 | 第11页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法 | 第11-12页 |
| 1.3.3 物理气相沉积法 | 第12页 |
| 1.4 TiO_2光催化影响因素 | 第12-13页 |
| 1.4.1 TiO_2晶型 | 第12-13页 |
| 1.4.2 晶粒尺寸 | 第13页 |
| 1.4.3 晶格缺陷 | 第13页 |
| 1.5 TiO_2的改性方法 | 第13-14页 |
| 1.6 TiO_2基抗菌材料 | 第14页 |
| 1.7 研究意义和内容 | 第14-16页 |
| 1.7.1 研究意义 | 第14页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第14-16页 |
| 2 C:Ti-O的制备及其表征 | 第16-21页 |
| 2.1 C:Ti-O薄膜的制备 | 第16-18页 |
| 2.1.1 单极性脉冲反应磁控溅射 | 第16页 |
| 2.1.2 等离子体发射监控系统(PEM) | 第16-18页 |
| 2.2 C:Ti-O薄膜的表征 | 第18-21页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第18页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第18-19页 |
| 2.2.3 拉曼光谱(Raman) | 第19页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第19页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第19页 |
| 2.2.6 纳米力学系统 | 第19-20页 |
| 2.2.7 接触角测量仪 | 第20页 |
| 2.2.8 紫外-可见分光光度计 | 第20-21页 |
| 3 C:Ti-O薄膜的制备及其表征 | 第21-52页 |
| 3.1 实验材料及设备 | 第21-22页 |
| 3.2 薄膜的制备 | 第22-25页 |
| 3.2.1 镀膜基体准备 | 第22页 |
| 3.2.2 PEM测试反应磁控溅射滞回曲线 | 第22-24页 |
| 3.2.3 C:Ti-O薄膜的制备 | 第24-25页 |
| 3.3 薄膜的表征与讨论 | 第25-44页 |
| 3.3.1 形貌表征 | 第25-29页 |
| 3.3.2 物相分析 | 第29-32页 |
| 3.3.3 成分分析 | 第32-38页 |
| 3.3.4 透射光谱及其带隙宽度 | 第38-39页 |
| 3.3.5 接触角测试 | 第39-41页 |
| 3.3.6 力学性能 | 第41-44页 |
| 3.4 光催化及抗菌性能 | 第44-51页 |
| 3.4.1 光催化性能 | 第44-46页 |
| 3.4.2 抗菌性能 | 第46-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 4 退火对C:Ti-O薄膜成分和结构的影响 | 第52-63页 |
| 4.1 薄膜制备及退火 | 第52-53页 |
| 4.2 退火薄膜的表征与讨论 | 第53-60页 |
| 4.2.1 形貌表征 | 第53-55页 |
| 4.2.2 物相分析 | 第55-57页 |
| 4.2.3 成分分析 | 第57-59页 |
| 4.2.4 透射光谱及其带隙宽度 | 第59-60页 |
| 4.3 光催化及抗菌性能 | 第60-62页 |
| 4.3.1 光催化性能 | 第60-61页 |
| 4.3.2 抗菌性能 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 5 结论与展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 硕士期间取得的科研成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
