| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 Terfenol-D薄膜的研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 Terfenol-D的研究进展 | 第10-15页 |
| 1.3 论文的研究内容 | 第15-17页 |
| 2 Terfenol-D薄膜的制备及表征方法 | 第17-26页 |
| 2.1 制备方法 | 第17-23页 |
| 2.2 Terfenol-D薄膜的结构和性能表征的方法 | 第23-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-26页 |
| 3 Terfenol-D薄膜磁控溅射工艺 | 第26-38页 |
| 3.1 射频磁控溅射法制备Terfenol-D薄膜基准沉积工艺参数确定 | 第26-31页 |
| 3.2 溅射气压影响 | 第31-33页 |
| 3.3 溅射功率影响 | 第33-35页 |
| 3.4 溅射时间影响 | 第35-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-38页 |
| 4 Terfenol-D薄膜真空热处理工艺 | 第38-48页 |
| 4.1 真空热处理Terfenol-D薄膜基准工艺参数的确定 | 第38-40页 |
| 4.2 热处理温度的影响 | 第40-43页 |
| 4.3 热处理时间的影响 | 第43-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 5 总结 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |