摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第1章 绪论 | 第13-29页 |
1.1 草甘膦物化性质及在水-土环境中的行为 | 第13-15页 |
1.2 草甘膦的毒性毒理 | 第15-17页 |
1.3 草甘膦的检测技术进展 | 第17-22页 |
1.3.1 色谱与质谱联用法 | 第17页 |
1.3.2 离子色谱法 | 第17页 |
1.3.3 紫外-可见分光光度法 | 第17-22页 |
1.4 草甘膦的修复技术进展 | 第22-25页 |
1.4.1 生物法 | 第22页 |
1.4.2 膜分离法 | 第22-23页 |
1.4.3 吸附法 | 第23-24页 |
1.4.4 高级氧化法 | 第24-25页 |
1.5 石墨烯材料概述 | 第25-27页 |
1.5.1 石墨烯及其衍生物 | 第25-26页 |
1.5.2 石墨烯基改性材料在环境领域的应用 | 第26-27页 |
1.6 课题的研究目的和研究内容 | 第27-29页 |
1.6.1 课题研究的目的与意义 | 第27页 |
1.6.2 课题的研究内容及主要技术路线 | 第27-29页 |
第2章 材料和方法 | 第29-37页 |
2.1 实验材料 | 第29-32页 |
2.1.1 主要仪器 | 第29-30页 |
2.1.2 主要试剂 | 第30页 |
2.1.3 石墨烯基材料制备 | 第30-32页 |
2.2 实验方法 | 第32-37页 |
2.2.1 材料表征 | 第32页 |
2.2.2 草甘膦测试 | 第32-33页 |
2.2.3 磁性石墨烯静态吸附草甘膦的影响因素实验 | 第33-34页 |
2.2.4 石墨烯基铁氧化物动态吸附草甘膦的影响因素实验 | 第34-35页 |
2.2.5 三维石墨烯基材料活化过硫酸钠降解草甘膦的影响因素实验 | 第35-37页 |
第3章 草甘膦污染水体的磁性石墨烯吸附性能及机理 | 第37-51页 |
3.1 吸附草甘膦前后的rGO-Fe_3O_4表征 | 第37-41页 |
3.1.1 SEM和EDS分析 | 第37-38页 |
3.1.2 FTIR分析 | 第38-39页 |
3.1.3 XPS光谱分析 | 第39-41页 |
3.2 影响磁性石墨烯静态吸附草甘膦的因素分析 | 第41-44页 |
3.2.1 初始浓度和反应温度 | 第41-42页 |
3.2.2 溶液pH | 第42-43页 |
3.2.3 反应时间 | 第43页 |
3.2.4 离子强度与竞争离子 | 第43-44页 |
3.3 磁性石墨烯去除草甘膦的机理分析 | 第44-50页 |
3.3.1 吸附动力学模型 | 第44-47页 |
3.3.2 等温吸附模型 | 第47-48页 |
3.3.3 热力学参数 | 第48-50页 |
3.3.4 磁性石墨烯对草甘膦的吸附机理 | 第50页 |
3.4 结论 | 第50-51页 |
第4章 石墨烯基铁氧化物对水体中草甘膦的动态吸附研究 | 第51-61页 |
4.1 rGO-Fe_3_O4-玻璃珠复合材料表征 | 第51-54页 |
4.1.1 SEM-EDS分析 | 第51-52页 |
4.1.2 XPS分析 | 第52-54页 |
4.1.3 全自动比表面及孔隙度分析仪 | 第54页 |
4.2 影响石墨烯基铁氧化物动态吸附草甘膦的因素分析 | 第54-58页 |
4.2.1 柱高 | 第55-56页 |
4.2.2 流速 | 第56-57页 |
4.2.3 草甘膦初始浓度 | 第57页 |
4.2.4 溶液pH | 第57-58页 |
4.3 动态吸附模型分析 | 第58-60页 |
4.4 结论 | 第60-61页 |
第5章 三维石墨烯基材料催化活化过硫酸钠降解草甘膦的性能机制 | 第61-77页 |
5.1 3 D-rGO及其复合材料表征 | 第61-68页 |
5.1.1 SEM分析 | 第61-63页 |
5.1.2 FTIR波谱分析 | 第63页 |
5.1.3 XPS波谱分析 | 第63-66页 |
5.1.4 全自动比表面及孔隙度分析仪 | 第66-67页 |
5.1.5 EPR分析 | 第67-68页 |
5.2 影响过硫酸钠氧化降解草甘膦的因素分析 | 第68-75页 |
5.2.1 不同Fe-C比例 | 第68-69页 |
5.2.2 溶液pH | 第69-71页 |
5.2.3 Na_2S_2O_8投加量 | 第71页 |
5.2.4 共存离子 | 第71-73页 |
5.2.5 温度 | 第73-74页 |
5.2.6 重复性 | 第74-75页 |
5.3 结论 | 第75-77页 |
第6章 结论、创新点与展望 | 第77-79页 |
6.1 结论 | 第77-78页 |
6.2 创新点 | 第78页 |
6.3 研究展望 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-86页 |
在学期间研究成果 | 第86-87页 |
致谢 | 第87-88页 |