| 学位论文数据集 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| 1.1 含氮废气的简介及危害 | 第12页 |
| 1.2 含氮废气的净化方法 | 第12-13页 |
| 1.3 分子筛简介 | 第13-14页 |
| 1.4 分子筛的吸附特点 | 第14-15页 |
| 1.5 本文选取的分子筛模型 | 第15-18页 |
| 第二章 分子模拟方法简介 | 第18-22页 |
| 2.1 分子模拟技术发展 | 第18-19页 |
| 2.2 Monte Carlo方法的应用 | 第19页 |
| 2.3 Monte Dynamics方法的应用 | 第19-20页 |
| 2.4 模拟细节 | 第20-21页 |
| 2.4.1 MC模拟细节 | 第20页 |
| 2.4.2 MD模拟细节 | 第20页 |
| 2.4.3 扩散系数的计算 | 第20-21页 |
| 2.5 本文的研究内容 | 第21-22页 |
| 第三章 氮氧化物在分子筛上的吸附 | 第22-48页 |
| 3.1 电荷对NO在分子筛上吸附的影响 | 第22-24页 |
| 3.2 氮氧化物在纯硅分子筛上的吸附特性 | 第24-34页 |
| 3.2.1 单一组分吸附质在分子筛上的吸附 | 第24-30页 |
| 3.2.2 双组分气体在纯硅分子筛上的吸附特点 | 第30-34页 |
| 3.3 氮氧化物在H型分子筛上的吸附特性 | 第34-42页 |
| 3.3.1 单一组分吸附质在H型分子筛上的吸附 | 第34-41页 |
| 3.3.2 双组分气体在H型分子筛上的吸附 | 第41-42页 |
| 3.4 NO与NH_3在Cu负载分子筛上的吸附 | 第42-46页 |
| 3.4.1 单一组分气体在CU负载分子筛上的吸附 | 第43-45页 |
| 3.4.2 双组分气体在Cu负载分子筛上的吸附 | 第45-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 氮氧化物在分子筛上的扩散 | 第48-58页 |
| 4.1 不同气体负载量下扩散系数 | 第48-50页 |
| 4.2 单/双组分气体下的扩散系数 | 第50-52页 |
| 4.3 不同硅铝比下的扩散系数 | 第52-54页 |
| 4.4 NH_3-SCR反应前段反应物扩散系数的对比 | 第54-55页 |
| 4.5 NH_3-SCR反应后端生成物扩散系数的对比 | 第55-56页 |
| 4.6 本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 NO和NH_3在CU-CHA上的吸附与扩散 | 第58-70页 |
| 5.1 分子筛模型的建立 | 第58-59页 |
| 5.2 单一组分气体在Cu-CHA分子筛上的吸附 | 第59-60页 |
| 5.3 单一组分气体在Cu-CHA分子筛上的扩散 | 第60-61页 |
| 5.4 双组分气体在Cu-CHA分子筛上的吸附 | 第61-63页 |
| 5.5 双组分气体在Cu-CHA分子筛上的扩散 | 第63-65页 |
| 5.6 NH_3分子在Cu-CHA分子筛内的粒子云图 | 第65-68页 |
| 5.7 本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 总结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 作者及导师简介 | 第78-80页 |
| 附件 | 第80-81页 |
