微小光学元件磁流变斜轴研抛装置开发及其加工特性研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 插图索引 | 第11-13页 |
| 插表索引 | 第13-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-25页 |
| ·研究背景 | 第14-15页 |
| ·微小光学元件加工技术现状 | 第15-18页 |
| ·磁流变研抛技术 | 第18-20页 |
| ·磁流变研抛技术国内外发展与现状 | 第20-22页 |
| ·本课题研究意义及课题来源 | 第22-23页 |
| ·本文主要研究内容及技术路线 | 第23-25页 |
| ·主要研究内容 | 第23-24页 |
| ·研究技术路线 | 第24-25页 |
| 第2章 磁流变研抛的基本理论 | 第25-33页 |
| ·磁流变研抛的基本理论 | 第25-29页 |
| ·磁流变研抛液 | 第25-26页 |
| ·磁流变研抛基本原理 | 第26-27页 |
| ·磁流变研抛的特点 | 第27-29页 |
| ·磁流变研抛的理论模型 | 第29-32页 |
| ·磁流变研抛数学模型 | 第29-30页 |
| ·磁流变研抛面形误差修正 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 磁流变斜轴研抛装置的设计 | 第33-48页 |
| ·磁流变斜轴研抛原理 | 第33-34页 |
| ·磁流变斜轴研抛装置总体设计 | 第34-43页 |
| ·装置总体要求 | 第34-35页 |
| ·硬件组成及总体布局 | 第35-37页 |
| ·控制单元设计 | 第37-39页 |
| ·循环系统设计 | 第39-40页 |
| ·研抛工具头结构设计 | 第40-43页 |
| ·磁流变斜轴研抛装置实物图 | 第43-44页 |
| ·研抛路径规划 | 第44-47页 |
| ·磁流变斜轴加工非球面轨迹 | 第44-45页 |
| ·斜轴加工路径函数 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 磁流变研抛液的研制 | 第48-58页 |
| ·研抛用磁流变液组成成分及其性能影响 | 第48-53页 |
| ·磁流变研抛液稳定性能的影响因素 | 第49-50页 |
| ·磁流变研抛液流变性能的影响因素 | 第50-51页 |
| ·磁流变研抛液离散性能的影响因素 | 第51-52页 |
| ·研抛磨料 | 第52-53页 |
| ·磁流变研抛液配制及性能研究 | 第53-57页 |
| ·磁流变研抛液原料的选择 | 第53-54页 |
| ·磁流变研抛液稳定性能分析 | 第54-55页 |
| ·基载液对研抛效果影响 | 第55-56页 |
| ·研抛磨料对研抛效果影响 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第5章 磁流变研抛工艺试验 | 第58-77页 |
| ·光学玻璃元件的研抛 | 第58-60页 |
| ·红铜微小非球面的磁流变研抛 | 第60-64页 |
| ·红铜非球面的切削 | 第60-61页 |
| ·红铜非球面的研抛 | 第61-64页 |
| ·碳化钨微小非球面的磁流变研抛 | 第64-72页 |
| ·碳化钨材料特性 | 第64-65页 |
| ·非球面模具的磨削 | 第65-67页 |
| ·非球面碳化钨模具的研抛 | 第67-72页 |
| ·单晶硅微小非球面的磁流变研抛 | 第72-75页 |
| ·单晶硅非球面的磨削加工 | 第72-73页 |
| ·单晶硅非球面的研抛 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 结论与展望 | 第77-79页 |
| 1.论文主要研究工作 | 第77-78页 |
| 2.论文主要创新点 | 第78页 |
| 3.研究展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 附录A (攻读学位期间发表的论文及申请专利) | 第84-85页 |
| 附录B (攻读学位期间参与的研究课题) | 第85页 |
