摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-22页 |
1.1 课题背景及意义 | 第9-10页 |
1.2 磁控溅射技术 | 第10-14页 |
1.2.1 磁控溅射技术的基本原理 | 第10-12页 |
1.2.2 闭合场非平衡磁控溅射技术 | 第12-14页 |
1.3 正交实验设计法 | 第14-16页 |
1.4 类金刚石非晶碳薄膜 | 第16-21页 |
1.4.1 类金刚石非晶碳膜(DLC)的成分和结构 | 第16-17页 |
1.4.2 DLC薄膜制备方法 | 第17页 |
1.4.3 DLC薄膜的国内外研究现状 | 第17-19页 |
1.4.4 橡胶表面制备DLC薄膜的研究现状 | 第19-21页 |
1.5 本课题主要研究内容 | 第21-22页 |
第2章 试验设备与方法 | 第22-31页 |
2.1 试验设备 | 第22-24页 |
2.2 试验方法 | 第24-30页 |
2.2.1 试验材料 | 第24页 |
2.2.2 试验工艺 | 第24-25页 |
2.2.3 试验设计 | 第25-30页 |
2.3 分析测试方法 | 第30-31页 |
2.3.1 扫描电子显微镜分析 | 第30页 |
2.3.2 摩擦磨损性能测试 | 第30页 |
2.3.3 Raman光谱分析 | 第30-31页 |
第3章 闭合场非平衡磁控法电特性研究 | 第31-41页 |
3.1 CFUBMS(GD)法的电特性 | 第31-35页 |
3.1.1 励磁线圈电流对电特性的影响 | 第31-33页 |
3.1.2 沉积气压对电特性的影响 | 第33页 |
3.1.3 气体流量比对电特性的影响 | 第33-34页 |
3.1.4 脉冲偏压对电特性的影响 | 第34-35页 |
3.2 CFUBMS(DC)法的电特性 | 第35-39页 |
3.2.1 励磁线圈电流对电特性的影响 | 第35-36页 |
3.2.2 磁控靶电流对电特性的影响 | 第36页 |
3.2.3 沉积气压对电特性的影响 | 第36-37页 |
3.2.4 气体流量比对电特性的影响 | 第37-38页 |
3.2.5 基体偏压对电特性的影响 | 第38-39页 |
3.2.6 占空比对电特性的影响 | 第39页 |
3.3 本章小结 | 第39-41页 |
第4章 CFUBMS法制备DLC膜及摩擦性能研究 | 第41-60页 |
4.1 CFUBMS法沉积工艺探索 | 第41-44页 |
4.1.1 摩擦系数分析 | 第41-42页 |
4.1.2 磨痕形貌分析 | 第42-44页 |
4.2 CFUBMS法沉积工艺正交试验 | 第44-58页 |
4.2.1 摩擦系数分析 | 第44-47页 |
4.2.2 平均摩擦系数计算和趋势分析 | 第47-54页 |
4.2.3 摩擦系数极差分析 | 第54-56页 |
4.2.4 磨痕形貌对比图 | 第56-58页 |
4.3 本章小节 | 第58-60页 |
第5章 橡胶表面DLC膜微观组织与摩擦性能的关系 | 第60-69页 |
5.1 橡胶表面DLC膜表面形貌 | 第60-64页 |
5.1.1 CFUBMS(GD)法表面形貌 | 第60-61页 |
5.1.2 CFUBMS(DC)法表面形貌 | 第61-64页 |
5.2 橡胶表面DLC膜截面形貌 | 第64-65页 |
5.3 橡胶表面DLC膜拉曼光谱分析 | 第65-68页 |
5.4 本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
致谢 | 第76页 |