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丁腈橡胶闭合场非平衡磁控溅射制备DLC膜及摩擦性能研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第9-22页
    1.1 课题背景及意义第9-10页
    1.2 磁控溅射技术第10-14页
        1.2.1 磁控溅射技术的基本原理第10-12页
        1.2.2 闭合场非平衡磁控溅射技术第12-14页
    1.3 正交实验设计法第14-16页
    1.4 类金刚石非晶碳薄膜第16-21页
        1.4.1 类金刚石非晶碳膜(DLC)的成分和结构第16-17页
        1.4.2 DLC薄膜制备方法第17页
        1.4.3 DLC薄膜的国内外研究现状第17-19页
        1.4.4 橡胶表面制备DLC薄膜的研究现状第19-21页
    1.5 本课题主要研究内容第21-22页
第2章 试验设备与方法第22-31页
    2.1 试验设备第22-24页
    2.2 试验方法第24-30页
        2.2.1 试验材料第24页
        2.2.2 试验工艺第24-25页
        2.2.3 试验设计第25-30页
    2.3 分析测试方法第30-31页
        2.3.1 扫描电子显微镜分析第30页
        2.3.2 摩擦磨损性能测试第30页
        2.3.3 Raman光谱分析第30-31页
第3章 闭合场非平衡磁控法电特性研究第31-41页
    3.1 CFUBMS(GD)法的电特性第31-35页
        3.1.1 励磁线圈电流对电特性的影响第31-33页
        3.1.2 沉积气压对电特性的影响第33页
        3.1.3 气体流量比对电特性的影响第33-34页
        3.1.4 脉冲偏压对电特性的影响第34-35页
    3.2 CFUBMS(DC)法的电特性第35-39页
        3.2.1 励磁线圈电流对电特性的影响第35-36页
        3.2.2 磁控靶电流对电特性的影响第36页
        3.2.3 沉积气压对电特性的影响第36-37页
        3.2.4 气体流量比对电特性的影响第37-38页
        3.2.5 基体偏压对电特性的影响第38-39页
        3.2.6 占空比对电特性的影响第39页
    3.3 本章小结第39-41页
第4章 CFUBMS法制备DLC膜及摩擦性能研究第41-60页
    4.1 CFUBMS法沉积工艺探索第41-44页
        4.1.1 摩擦系数分析第41-42页
        4.1.2 磨痕形貌分析第42-44页
    4.2 CFUBMS法沉积工艺正交试验第44-58页
        4.2.1 摩擦系数分析第44-47页
        4.2.2 平均摩擦系数计算和趋势分析第47-54页
        4.2.3 摩擦系数极差分析第54-56页
        4.2.4 磨痕形貌对比图第56-58页
    4.3 本章小节第58-60页
第5章 橡胶表面DLC膜微观组织与摩擦性能的关系第60-69页
    5.1 橡胶表面DLC膜表面形貌第60-64页
        5.1.1 CFUBMS(GD)法表面形貌第60-61页
        5.1.2 CFUBMS(DC)法表面形貌第61-64页
    5.2 橡胶表面DLC膜截面形貌第64-65页
    5.3 橡胶表面DLC膜拉曼光谱分析第65-68页
    5.4 本章小结第68-69页
结论第69-70页
参考文献第70-76页
致谢第76页

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