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基于共面波导的RF MEMS可调滤波器研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-18页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 MEMS技术第11-12页
    1.3 RF MEMS 滤波器第12-17页
        1.3.1 RF MEMS滤波器简介第12-13页
        1.3.2 RF MEMS滤波器发展现状分析第13-17页
    1.4 主要研究内容第17-18页
第二章 RF MEMS滤波器的设计理论基础第18-32页
    2.1 共面波导传输线第18-21页
    2.2 两端口网络第21-24页
    2.3 滤波器设计理论第24-31页
        2.3.1 滤波器基础理论第24-30页
        2.3.2 滤波器的设计参数第30-31页
        2.3.3 滤波器设计的步骤和方法第31页
    2.4 本章小结第31-32页
第三章 共面波导滤波器的设计第32-48页
    3.1 电磁带隙技术第32-34页
        3.1.1 引言第32-33页
        3.1.2 电磁带隙结构简介第33-34页
    3.2 缺陷地结构简介第34-35页
    3.3 具有缺陷地结构的带阻滤波器设计第35-42页
        3.3.1 缺陷地结构的谐振单元第35-37页
        3.3.2 缺陷地结构尺寸对幅频特性的影响第37-39页
        3.3.3 带阻滤波器设计第39-42页
    3.4 具有螺旋结构的双阻带带阻滤波器设计第42-47页
        3.4.1 具有螺旋结构的谐振单元第42-45页
        3.4.2 螺旋结构对幅频特性的影响第45-46页
        3.4.3 双阻带带阻滤波器的设计第46-47页
    3.5 本章小结第47-48页
第四章 基于RF MEMS的可调滤波器的设计第48-57页
    4.1 RF MEMS开关设计第48-52页
        4.1.1 RF MEMS开关设计第48-49页
        4.1.2 RF MEMS开关机械性能分析第49-50页
        4.1.3 RF MEMS开关电磁特性分析第50-52页
    4.2 RF MEMS可调滤波器的设计第52-56页
        4.2.1 可调DGS谐振器设计第52-54页
        4.2.2 RF MEMS可调带阻滤波器的设计第54-55页
        4.2.3 具有螺旋结构的可调带阻滤波器第55-56页
    4.3 本章小结第56-57页
第五章 MEMS工艺流程第57-70页
    5.1 MEMS工艺简介第57-62页
        5.1.1 光刻技术第57-59页
        5.1.2 刻蚀技术第59-60页
        5.1.3 清洗技术第60-61页
        5.1.4 蒸发和溅射第61-62页
    5.2 RF MEMS可调滤波器工艺流程设计第62-67页
        5.2.1 滤波器加工工艺流程第62-63页
        5.2.2 MEMS开关结构工艺流程第63-67页
    5.3 测试第67-68页
    5.4 本章小结第68-70页
第六章 总结与展望第70-72页
参考文献第72-75页
致谢第75-76页
攻读学位期间发表的学术论文目录第76页

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