| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第10-21页 |
| 1.1 光学全息技术的产生及发展 | 第10-12页 |
| 1.2 微波全息技术的产生、发展及前景 | 第12-13页 |
| 1.3 全息天线技术的产生与发展 | 第13-15页 |
| 1.4 全息调制阻抗表面天线的发展及意义 | 第15-17页 |
| 1.5 全息阻抗表面天线共形技术的国内外发展及意义 | 第17-19页 |
| 1.6 本文主要工作及内容安排 | 第19-21页 |
| 第二章 全息调制阻抗表面天线的相关原理 | 第21-37页 |
| 2.1 光学全息成像原理 | 第21-23页 |
| 2.2 全息天线的一般工作机理 | 第23-24页 |
| 2.3 全息调制阻抗表面天线的基本原理 | 第24-35页 |
| 2.3.1 表面波 | 第24-27页 |
| 2.3.2 漏波天线 | 第27-28页 |
| 2.3.3 正弦调制阻抗表面 | 第28-33页 |
| 2.3.3.1 调制阻抗表面漏波分析 | 第28-29页 |
| 2.3.3.2 调制阻抗表面色散分析 | 第29-33页 |
| 2.3.4 全息调制阻抗表面机理 | 第33-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 全息调制阻抗表面天线的研究与设计 | 第37-64页 |
| 3.1 全息调制阻抗表面的设计 | 第37-43页 |
| 3.1.1 阻抗表面的实现形式 | 第37-38页 |
| 3.1.2 表面阻抗的提取方法 | 第38-43页 |
| 3.2 全息调制阻抗表面的修正 | 第43-53页 |
| 3.2.1 表面阻抗提取 | 第43-44页 |
| 3.2.2 全息调制阻抗表面天线分析 | 第44-48页 |
| 3.2.3 改进的全息调制阻抗表面天线 | 第48-53页 |
| 3.3 准八木-宇田激励全息调制阻抗表面天线 | 第53-62页 |
| 3.3.1 准八木-宇田槽天线激励表面波 | 第53-56页 |
| 3.3.2 准八木-宇田槽天线馈电的全息调制阻抗表面天线 | 第56-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 全息调制阻抗表面天线共形技术的研究 | 第64-80页 |
| 4.1 全息共形调制阻抗表面天线的基本原理 | 第64-65页 |
| 4.2 基于全息柱面共形调制阻抗表面天线的研究与设计 | 第65-69页 |
| 4.2.1 全息柱面共形调制阻抗表面天线调制阻抗原理的研究 | 第65-66页 |
| 4.2.2 全息柱面共形调制阻抗表面天线的设计 | 第66-69页 |
| 4.3 基于全息锥面共形的调制阻抗表面天线的研究与设计 | 第69-79页 |
| 4.3.1 全息锥面共形调制阻抗表面天线调制阻抗原理的研究 | 第70-72页 |
| 4.3.2 全息锥面共形调制阻抗表面天线的设计 | 第72-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-80页 |
| 第五章 工作总结和展望 | 第80-83页 |
| 5.1 研究的主要成果及创新工作 | 第80-81页 |
| 5.2 研究工作的局限和展望 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第88-89页 |
