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新型分子印迹聚合物的制备及性能研究

中文摘要第2-3页
Abstract第3-4页
中文文摘第5-11页
绪论第11-25页
    0.1 分子印迹技术概述第11-19页
        0.1.1 分子印迹技术的发展历史第11-12页
        0.1.2 分子印迹技术的基本原理第12页
        0.1.3 分子印迹聚合物的制备第12-15页
        0.1.4 分子印迹技术的应用第15-19页
    0.2 静电纺丝技术第19-21页
        0.2.1 静电纺丝技术的基本原理第19-20页
        0.2.2 静电纺丝技术的应用第20-21页
    0.3 课题的立题依据、内容和特色第21-25页
        0.3.1 立题依据第21-22页
        0.3.2 课题研究内容第22-23页
        0.3.3 课题特色第23-25页
第一章 静电纺丝/分子印迹/致孔剂协同作用制备印迹PVB/-CD纳米纤维第25-41页
    1.1 引言第25-27页
    1.2 实验部分第27-30页
        1.2.1 材料第27页
        1.2.2 致孔剂作用下分子印迹PVB/β-CD纳米纤维(MIN-PFA)的制备第27-29页
        1.2.3 测量和表征第29-30页
    1.3 结果与讨论第30-38页
        1.3.1 MIN-PFA的制备第30-31页
        1.3.2 分析测试第31-35页
        1.3.3 印迹效应第35-36页
        1.3.4 PFA和电纺丝技术的作用第36-38页
        1.3.5 再生实验第38页
    1.4 本章小结第38-41页
第二章 三(2,3-二溴丙基)异氰脲酸酯分子印迹聚(邻氨基酚)膜传感器的研制第41-53页
    2.1 前言第41-43页
    2.2 实验部分第43-44页
        2.2.1 仪器和试剂第43页
        2.2.2 MIP传感器的制备第43页
        2.2.3 测定第43-44页
    2.3 结果与讨论第44-50页
        2.3.1 MIP传感器的制备第44-47页
        2.3.2 MIP/NIP传感器的特征第47-48页
        2.3.3 传感器的电化学性质第48-49页
        2.3.4 MIP传感器的性能第49-50页
    2.4 本章小结第50-53页
第三章 三(2,3-二溴丙基)异氰脲酸酯分子印迹聚邻苯二胺敏感膜传感器的研制第53-61页
    3.1 引言第53页
    3.2 实验部分第53-54页
        3.2.1 主要仪器与试剂第53-54页
        3.2.2 MIP传感器敏感膜的制备第54页
        3.2.3 检测方法第54页
    3.3 结果与讨论第54-60页
        3.3.1 分子印迹电聚合第54-56页
        3.3.2 洗脱第56页
        3.3.3 传感器敏感膜的表征第56-58页
        3.3.4 分子印迹效应评价第58-60页
    3.4 本章小结第60-61页
第四章 结论第61-65页
参考文献第65-79页
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果第79-81页
致谢第81-83页
个人简历第83-85页

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