中文摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3-4页 |
中文文摘 | 第5-11页 |
绪论 | 第11-25页 |
0.1 分子印迹技术概述 | 第11-19页 |
0.1.1 分子印迹技术的发展历史 | 第11-12页 |
0.1.2 分子印迹技术的基本原理 | 第12页 |
0.1.3 分子印迹聚合物的制备 | 第12-15页 |
0.1.4 分子印迹技术的应用 | 第15-19页 |
0.2 静电纺丝技术 | 第19-21页 |
0.2.1 静电纺丝技术的基本原理 | 第19-20页 |
0.2.2 静电纺丝技术的应用 | 第20-21页 |
0.3 课题的立题依据、内容和特色 | 第21-25页 |
0.3.1 立题依据 | 第21-22页 |
0.3.2 课题研究内容 | 第22-23页 |
0.3.3 课题特色 | 第23-25页 |
第一章 静电纺丝/分子印迹/致孔剂协同作用制备印迹PVB/-CD纳米纤维 | 第25-41页 |
1.1 引言 | 第25-27页 |
1.2 实验部分 | 第27-30页 |
1.2.1 材料 | 第27页 |
1.2.2 致孔剂作用下分子印迹PVB/β-CD纳米纤维(MIN-PFA)的制备 | 第27-29页 |
1.2.3 测量和表征 | 第29-30页 |
1.3 结果与讨论 | 第30-38页 |
1.3.1 MIN-PFA的制备 | 第30-31页 |
1.3.2 分析测试 | 第31-35页 |
1.3.3 印迹效应 | 第35-36页 |
1.3.4 PFA和电纺丝技术的作用 | 第36-38页 |
1.3.5 再生实验 | 第38页 |
1.4 本章小结 | 第38-41页 |
第二章 三(2,3-二溴丙基)异氰脲酸酯分子印迹聚(邻氨基酚)膜传感器的研制 | 第41-53页 |
2.1 前言 | 第41-43页 |
2.2 实验部分 | 第43-44页 |
2.2.1 仪器和试剂 | 第43页 |
2.2.2 MIP传感器的制备 | 第43页 |
2.2.3 测定 | 第43-44页 |
2.3 结果与讨论 | 第44-50页 |
2.3.1 MIP传感器的制备 | 第44-47页 |
2.3.2 MIP/NIP传感器的特征 | 第47-48页 |
2.3.3 传感器的电化学性质 | 第48-49页 |
2.3.4 MIP传感器的性能 | 第49-50页 |
2.4 本章小结 | 第50-53页 |
第三章 三(2,3-二溴丙基)异氰脲酸酯分子印迹聚邻苯二胺敏感膜传感器的研制 | 第53-61页 |
3.1 引言 | 第53页 |
3.2 实验部分 | 第53-54页 |
3.2.1 主要仪器与试剂 | 第53-54页 |
3.2.2 MIP传感器敏感膜的制备 | 第54页 |
3.2.3 检测方法 | 第54页 |
3.3 结果与讨论 | 第54-60页 |
3.3.1 分子印迹电聚合 | 第54-56页 |
3.3.2 洗脱 | 第56页 |
3.3.3 传感器敏感膜的表征 | 第56-58页 |
3.3.4 分子印迹效应评价 | 第58-60页 |
3.4 本章小结 | 第60-61页 |
第四章 结论 | 第61-65页 |
参考文献 | 第65-79页 |
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第79-81页 |
致谢 | 第81-83页 |
个人简历 | 第83-85页 |