| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 课题背景 | 第12页 |
| 1.2 传统的铝及其合金的表面处理技术 | 第12-15页 |
| 1.2.1 激光表面处理 | 第13-14页 |
| 1.2.2 化学镀 | 第14页 |
| 1.2.3 电镀 | 第14-15页 |
| 1.2.4 阳极氧化 | 第15页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第15-24页 |
| 1.3.1 微弧氧化技术的简介 | 第15-16页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术的作用机理 | 第16页 |
| 1.3.3 微弧氧化技术的特点 | 第16-17页 |
| 1.3.4 微弧氧化技术的影响因素 | 第17-19页 |
| 1.3.4.1 电解液成分 | 第17-18页 |
| 1.3.4.2 电参数 | 第18页 |
| 1.3.4.3 合金元素 | 第18-19页 |
| 1.3.5 铸造铝合金微弧氧化技术的研究现状 | 第19-24页 |
| 1.4 本文的研究目的及主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验器材和实验方法 | 第25-34页 |
| 2.1 实验仪器 | 第25-27页 |
| 2.1.1 微弧氧化设备 | 第25-26页 |
| 2.1.2 其他实验仪器 | 第26-27页 |
| 2.2 实验材料 | 第27-29页 |
| 2.3 实验的技术路线 | 第29-30页 |
| 2.4 铝硅合金微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第30-31页 |
| 2.4.1 样品预处理 | 第30-31页 |
| 2.4.1.1 试样的制备 | 第30页 |
| 2.4.1.2 去污除油 | 第30-31页 |
| 2.4.2 微弧氧化处理 | 第31页 |
| 2.4.3 样品后处理 | 第31页 |
| 2.5 铝硅合金微弧氧化陶瓷膜性能的表征 | 第31-34页 |
| 2.5.1 膜层厚度的测试 | 第31-32页 |
| 2.5.2 膜层的相结构分析 | 第32页 |
| 2.5.3 膜层的微观形貌及化学成分分析 | 第32页 |
| 2.5.4 膜层的粗糙度分析 | 第32页 |
| 2.5.5 膜层的硬度分析 | 第32页 |
| 2.5.6 膜层附着力检测 | 第32-33页 |
| 2.5.7 静态接触角测量 | 第33页 |
| 2.5.8 膜层的耐蚀性能分析 | 第33-34页 |
| 第三章 铝硅合金微弧氧化陶瓷膜制备工艺的研究 | 第34-58页 |
| 3.1 不同施电模式下铝硅合金微弧氧化的特点 | 第34-43页 |
| 3.1.1 恒流模式下铝硅合金的微弧氧化 | 第34-36页 |
| 3.1.1.1 恒流模式下的铝硅合金的电压变化 | 第34-35页 |
| 3.1.1.2 恒流模式下的铝硅合金的膜层厚度和粗糙度 | 第35-36页 |
| 3.1.2 恒压模式下铝硅合金的微弧氧化 | 第36-43页 |
| 3.1.2.1 恒压模式下铝硅合金的电流变化 | 第36-39页 |
| 3.1.2.2 恒压模式下铝硅合金的表面形貌及成分变化 | 第39-42页 |
| 3.1.2.3 恒压模式下铝硅合金的膜层厚度和表面粗糙度 | 第42-43页 |
| 3.2 硅对于微弧氧化的影响 | 第43-56页 |
| 3.2.1 基础电解液的探索实验 | 第43-44页 |
| 3.2.2 硅对于铝硅合金微弧氧化的影响 | 第44-56页 |
| 3.2.2.1 硅对于起弧时间的影响 | 第47-49页 |
| 3.2.2.2 硅对于膜层厚度的影响 | 第49-51页 |
| 3.2.2.3 硅对于膜层粗糙度的影响 | 第51-52页 |
| 3.2.2.4 硅对于膜层表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| 3.2.2.5 硅对于膜层截面的影响 | 第54-56页 |
| 3.3 本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 硅对于微弧氧化起弧的影响 | 第58-67页 |
| 4.1 硅对于起弧时表面形貌和成分的影响 | 第58-62页 |
| 4.2 铝硅合金的微弧氧化过程 | 第62-65页 |
| 4.2.1 铝硅合金微弧氧化的过程概述 | 第62-63页 |
| 4.2.2 铝硅合金微弧氧化的反应过程及机理 | 第63-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 铝硅合金微弧氧化添加剂的选择 | 第67-87页 |
| 5.1 添加剂的选择和影响 | 第67-70页 |
| 5.2 添加剂氟化物 A 和氟化物 B 的作用和影响 | 第70-76页 |
| 5.2.1 不同浓度的氟化物 A 和氟化物 B 对起弧的影响 | 第70-71页 |
| 5.2.2 不同浓度的氟化物 A 和氟化物 B 对膜层表面形貌的影响 | 第71-73页 |
| 5.2.3 不同浓度的氟化物 A 和氟化物 B 对膜层厚度和粗糙度的影响 | 第73-74页 |
| 5.2.4 不同浓度氟化物 B 对膜层耐蚀性的影响 | 第74-75页 |
| 5.2.5 氟化物 A 和氟化物 B 对不同硅含量的铝硅合金微弧氧化的影响 | 第75-76页 |
| 5.3 铝硅合金微弧氧化工艺的优化 | 第76-85页 |
| 5.3.1 微弧氧化时间对于膜层的影响 | 第76-79页 |
| 5.3.1.1 微弧氧化的时间对膜层表面形貌的影响 | 第76-78页 |
| 5.3.1.2 微弧氧化时间对膜层厚度和粗糙度的影响 | 第78-79页 |
| 5.3.2 工艺优化方案 | 第79-85页 |
| 5.3.2.1 工艺参数优化方案 | 第80页 |
| 5.3.2.2 微弧氧化膜层的表面微观形貌 | 第80-81页 |
| 5.3.2.3 微弧氧化膜层的表面润湿性能 | 第81-82页 |
| 5.3.2.4 微弧氧化膜层的表面耐蚀性能 | 第82-83页 |
| 5.3.2.5 微弧氧化膜层的表面硬度 | 第83-84页 |
| 5.3.2.6 微弧氧化膜层的 XRD 分析 | 第84页 |
| 5.3.2.7 微弧氧化膜层的表面附着力 | 第84-85页 |
| 5.4 本章小结 | 第85-87页 |
| 全文总结和实验展望 | 第87-89页 |
| 1、结论 | 第87-88页 |
| 2、实验展望 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-94页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
| 附件 | 第96页 |
