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硅晶体生长的分子动力学模拟研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4-5页
第1章 绪论第8-15页
    1.1 研究意义第8-9页
    1.2 定向凝固技术第9-10页
    1.3 晶体生长的基本理论和其模拟方法第10-13页
    1.4 研究现状第13-14页
    1.5 本文研究的主要内容第14-15页
第2章 分子动力学方法及分析技术第15-25页
    2.1 分子动力学方法第15-23页
        2.1.1 基本原理与模型近似第15-16页
        2.1.2 平衡系综第16-18页
        2.1.3 控制方法第18-20页
        2.1.4 势函数第20-23页
    2.2 分析技术第23-25页
第3章 硅的势函数对比研究第25-47页
    3.1 引言第25-26页
    3.2 体熔化第26-33页
        3.2.1 模型与方法第26页
        3.2.2 结果与讨论第26-33页
    3.3 表面熔化第33-41页
        3.3.1 模型与方法第33-34页
        3.3.2 结果和讨论第34-41页
    3.4 晶体生长第41-45页
        3.4.1 模型与方法第41-42页
        3.4.2 结果和讨论第42-45页
    3.5 本章小结第45-47页
第4章 温度对硅晶体生长特性的影响第47-58页
    4.1 引言第47页
    4.2 模型与方法第47页
    4.3 模拟结果第47-52页
    4.4 分析与讨论第52-57页
    4.5 本章小结第57-58页
第5章 生长面对硅晶体生长速率的影响第58-67页
    5.1 引言第58页
    5.2 模型与方法第58-59页
    5.3 结果与讨论第59-66页
    5.4 本章小结第66-67页
第6章 结论第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-73页
攻读学位期间的研究成果第73页

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