摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 综述 | 第10-22页 |
·光子晶体概论 | 第10-13页 |
·光子晶体的简介 | 第10-11页 |
·光子晶体的理论基础 | 第11-13页 |
·光子晶体的特性 | 第13-15页 |
·光子禁带 | 第13-14页 |
·抑制或增强自发辐射 | 第14-15页 |
·光子局域 | 第15页 |
·光子晶体的应用 | 第15-18页 |
·光子晶体光纤 | 第16页 |
·光子晶体滤波器 | 第16页 |
·高性能反射镜、偏振片和超棱镜等光学器件 | 第16-17页 |
·高效率发光二极管 | 第17页 |
·低阈值激光器 | 第17页 |
·光子晶体谐振腔 | 第17-18页 |
·光子晶体的制作研究 | 第18-20页 |
·精密机械加工法 | 第18页 |
·逐层叠加方法 | 第18-19页 |
·胶体自排法 | 第19页 |
·直写技术 | 第19页 |
·激光全息法微制作 | 第19-20页 |
·论文的研究意义和文章内容 | 第20-22页 |
第二章 SU8 感光树脂材料制作光波段一维层状光子晶体 | 第22-34页 |
·一维光子晶体简介 | 第22页 |
·全息光刻制备一维层状光子晶体的技术原理 | 第22-25页 |
·光束偏振调节法 | 第22-25页 |
·微结构支撑法 | 第25页 |
·感光树脂材料 | 第25-26页 |
·感光样品的制备过程 | 第26-27页 |
·感光树脂制备层状结构实验 | 第27-29页 |
·层状结构制作光路构型 | 第27-28页 |
·样品曝光及显影处理 | 第28-29页 |
·实验结果 | 第29-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第三章 重铬酸盐明胶干板制作光波段一维层状光子晶体 | 第34-45页 |
·DCG 简介 | 第34-35页 |
·DCG 中结构记录机理 | 第35页 |
·DCG 干板的制作 | 第35-36页 |
·DCG 明胶干版制作层状结构实验装置 | 第36-38页 |
·曝光后的显影处理 | 第38页 |
·实验结果分析 | 第38-44页 |
·样品的光子帯隙分析 | 第38-40页 |
·样品纵切面 SEM 表征 | 第40页 |
·不同入射角度制备的样品 | 第40-42页 |
·不同脱水温度对样品帯隙的影响 | 第42-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
第四章 一维光子晶体激射实验研究 | 第45-54页 |
·一维光子晶体带边激射实验理论基础 | 第45-47页 |
·自发辐射和受激辐射 | 第45-46页 |
·荧光染料的能级图 | 第46-47页 |
·态密度和光辐射的关系 | 第47页 |
·DC G 明胶层状结构染料的掺杂 | 第47-48页 |
·层状结构的激射实验研究 | 第48-53页 |
·激光激射实验装置 | 第48-49页 |
·样品的激射研究 | 第49-52页 |
·结果分析 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-59页 |
附录 | 第59-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
攻读学位期间发表论文 | 第63-64页 |