射频离子源等离子体激励特性研究
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 引言 | 第13-22页 |
1.1 课题背景 | 第13-15页 |
1.2 中性束注入系统 | 第15-17页 |
1.2.1 工作原理 | 第15-17页 |
1.2.2 组成结构 | 第17页 |
1.3 大功率强流离子源研究的发展与现状 | 第17-20页 |
1.3.1 传统灯丝离子源 | 第18-19页 |
1.3.2 射频离子源 | 第19-20页 |
1.4 课题研究内容和研究目标 | 第20-21页 |
1.5 研究意义 | 第21-22页 |
第2章 射频离子源基本概念及放电原理 | 第22-30页 |
2.1 工作原理 | 第22-25页 |
2.1.1 射频离子源放电原理 | 第22-23页 |
2.1.2 射频放电必备条件 | 第23-25页 |
2.2 射频离子源的主要结构 | 第25-29页 |
2.2.1 射频离子源驱动器 | 第26-27页 |
2.2.2 射频离子源扩展室 | 第27-28页 |
2.2.3 射频功率传输及匹配 | 第28-29页 |
2.3 本章小结 | 第29-30页 |
第3章 射频离子源放电模拟研究 | 第30-47页 |
3.1 模拟研究的理论模型 | 第30-35页 |
3.1.1 H_2放电的化学反应过程 | 第31-32页 |
3.1.2 物理模型 | 第32-34页 |
3.1.3 模型的模拟条件 | 第34-35页 |
3.2 驱动器结构对等离子体参数的影响 | 第35-42页 |
3.2.1 射频放电的基础特性 | 第35-38页 |
3.2.2 线圈匝数及匝间距对等离子体参数的影响 | 第38-41页 |
3.2.3 驱动器尺寸对等离子体参数的影响 | 第41-42页 |
3.3 射频离子源的放电特性分析 | 第42-46页 |
3.3.1 不同射频功率下等离子体参数的变化 | 第43-44页 |
3.3.2 不同气压下等离子体参数的变化 | 第44-46页 |
3.4 本章小结 | 第46-47页 |
第4章 射频离子源实验研究 | 第47-62页 |
4.1 射频离子源实验装置平台搭建 | 第47-49页 |
4.2 实验研究诊断工具 | 第49-52页 |
4.2.1 水流量热计测量系统 | 第50-51页 |
4.2.2 射频探针诊断系统 | 第51-52页 |
4.3 单驱动射频离子源放电特性分析 | 第52-61页 |
4.3.1 等离子体参数随功率的变化特性 | 第53-54页 |
4.3.2 等离子体参数随气压的变化特性 | 第54-56页 |
4.3.3 各部件上的功率沉积分布 | 第56-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-62页 |
第5章 总结与展望 | 第62-64页 |
5.1 总结 | 第62-63页 |
5.2 展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
致谢 | 第67-69页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第69页 |