摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-26页 |
1.1 课题背景 | 第14页 |
1.2 NO_x的来源及生成机理 | 第14-15页 |
1.3 NO_x的脱除净化技术 | 第15-17页 |
1.4 SCR脱硝技术 | 第17-18页 |
1.5 SCR脱硝催化剂 | 第18-24页 |
1.5.1 贵金属催化剂 | 第18-19页 |
1.5.2 金属氧化物催化剂 | 第19-22页 |
1.5.3 分子筛催化剂 | 第22-23页 |
1.5.4 碳基催化剂 | 第23-24页 |
1.6 本课题选题意义和内容 | 第24-26页 |
1.6.1 本课题选题意义及目的 | 第24页 |
1.6.2 本课题研究内容 | 第24-26页 |
第二章 实验内容和研究方法 | 第26-34页 |
2.1 实验药品和仪器 | 第26-27页 |
2.2 催化剂的制备 | 第27页 |
2.2.1 VMnTi催化剂的制备 | 第27页 |
2.2.2 WMnZr催化剂的制备 | 第27页 |
2.3 催化剂性能评价 | 第27-31页 |
2.4 催化剂的表征 | 第31页 |
2.4.1 BET比表面积测试 | 第31页 |
2.4.2 X射线衍射(XRD)分析 | 第31页 |
2.4.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第31页 |
2.4.4 程序升温还原(H_2-TPR)分析 | 第31页 |
2.5 原位漫反射傅里叶变换红外光谱研究 | 第31-34页 |
2.5.1 吸附稳态实验 | 第32页 |
2.5.2 DRIFTS吸附瞬态实验 | 第32-34页 |
第三章 VMnTi催化剂上NH_3-SCR催化性能的研究 | 第34-50页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 催化剂的活性评价 | 第34-40页 |
3.2.1 不同浸渍顺序对VMnTi催化剂活性的影响 | 第34-35页 |
3.2.2 Mn掺杂量对催化剂性能的影响 | 第35-37页 |
3.2.3 V1Mn2Ti和V_2O_5-WO_3/TiO_2催化剂活性的比较 | 第37-38页 |
3.2.4 催化剂的抗水抗硫性测试 | 第38-40页 |
3.3 催化剂的表征 | 第40-43页 |
3.3.1 BET和XRD分析 | 第40-41页 |
3.3.2 H_2-TPR分析 | 第41-42页 |
3.3.3 XPS分析 | 第42-43页 |
3.4 催化剂原位红外光谱图的分析 | 第43-49页 |
3.4.1 NH_3的稳态吸附 | 第43-45页 |
3.4.2 NO+O_2的稳态吸附 | 第45-46页 |
3.4.3 催化剂上NO+O_2与吸附的NH_3的瞬态吸附研究 | 第46-48页 |
3.4.4 催化剂上NH_3与吸附的NO_x的瞬态吸附研究 | 第48-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-50页 |
第四章 WMnZr催化剂上NH_3-SCR催化性能的研究 | 第50-66页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 WMnZr催化剂的活性测试 | 第50-54页 |
4.2.1 催化剂载体的选择 | 第50-51页 |
4.2.2 WO_3掺杂量对催化剂性能的影响 | 第51-52页 |
4.2.3 催化剂上N_2选择性的测试 | 第52-53页 |
4.2.4 H_2O和SO_2对催化剂活性的影响 | 第53-54页 |
4.3 催化剂的表征 | 第54-58页 |
4.3.1 BET比表面积分析 | 第54-55页 |
4.3.2 XRD分析 | 第55页 |
4.3.3 H_2-TPR分析 | 第55-56页 |
4.3.4 XPS分析 | 第56-58页 |
4.4 催化剂原位红外光谱图分析 | 第58-63页 |
4.4.1 催化剂上NH_3稳态吸附的研究 | 第58-60页 |
4.4.2 催化剂上NO+O_2稳态吸附的研究 | 第60-61页 |
4.4.3 催化剂上NO+O_2与吸附的NH_3的瞬态吸附研究 | 第61-62页 |
4.4.4 催化剂上NH_3与吸附的NO_x的瞬态吸附研究 | 第62-63页 |
4.5 本章小结 | 第63-66页 |
第五章 总结和展望 | 第66-68页 |
5.1 总结 | 第66页 |
5.2 研究展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
致谢 | 第74-76页 |
研究成果及发表论文 | 第76-78页 |
作者和导师简介 | 第78-79页 |
附件 | 第79-80页 |