| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| ·二氧化锡的性能及应用 | 第13页 |
| ·纳米二氧化锡粉体的制备及研究现状 | 第13-16页 |
| ·水热法 | 第14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
| ·化学沉淀法 | 第15页 |
| ·微乳液法 | 第15-16页 |
| ·掺杂纳米SnO_2的制备及研究现状 | 第16-17页 |
| ·Sb_2O_3的掺杂 | 第16页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第16-17页 |
| ·CeO_2和La_2O_3的掺杂 | 第17页 |
| ·其他氧化物的掺杂 | 第17页 |
| ·超细二氧化锡粉体烧结研究现状 | 第17-19页 |
| ·超细粉体的烧结理论 | 第17-19页 |
| ·超细二氧化锡粉体烧结的工艺研究现状 | 第19页 |
| ·超细陶瓷粉体烧结致密化 | 第19-20页 |
| ·消除孔隙 | 第19-20页 |
| ·抑制晶粒生长 | 第20页 |
| ·烧结致密化 | 第20页 |
| ·本课题的意义及创新点 | 第20-22页 |
| 第二章 共沉淀法制备多元素掺杂的超细SnO_2粉体 | 第22-38页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第22-24页 |
| ·实验步骤 | 第24-26页 |
| ·La_2O_3掺杂 | 第24-26页 |
| ·复合氧化物掺杂 | 第26页 |
| ·测试方法 | 第26-28页 |
| ·热重分析测试(TG) | 第26-27页 |
| ·傅立叶红外测试(IR) | 第27页 |
| ·X-射线衍射测试(XRD) | 第27页 |
| ·透射电镜测试(TEM) | 第27-28页 |
| ·结果与分析 | 第28-37页 |
| ·TG测定 | 第28-29页 |
| ·IR测定 | 第29-30页 |
| ·XRD测定 | 第30-35页 |
| ·透射电镜分析 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 La_2O_3、Sb_2O_3对SnO_2电极电学性能的影响 | 第38-51页 |
| ·实验部分 | 第38-43页 |
| ·工艺流程图 | 第38-39页 |
| ·实验配方 | 第39-40页 |
| ·电极制备 | 第40-42页 |
| ·烧结制度 | 第42-43页 |
| ·电极电阻率测试 | 第43-47页 |
| ·成型压力对电阻率的影响 | 第44页 |
| ·烧结温度对电阻率的影响 | 第44-45页 |
| ·La_2O_3掺杂含量对电阻率的影响 | 第45-46页 |
| ·Sb_2O_3掺杂含量对电阻率的影响 | 第46-47页 |
| ·掺杂La_2O_3电极XRD测试 | 第47页 |
| ·掺杂La_2O_3电极SEM测试 | 第47-48页 |
| ·掺杂导电机理 | 第48-50页 |
| ·La作用机理 | 第48-49页 |
| ·Sb作用机理 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 La_2O_3掺杂SnO_2电极的烧结致密化 | 第51-70页 |
| ·试验 | 第51-53页 |
| ·实验配方选择 | 第51-52页 |
| ·烧结 | 第52页 |
| ·体积密度的测定 | 第52-53页 |
| ·结果与分析 | 第53-67页 |
| ·烧结工艺的影响 | 第53-57页 |
| ·烧结最高温度的影响 | 第57-60页 |
| ·掺杂La_2O_3浓度的影响 | 第60-67页 |
| ·致密化烧结机理探讨 | 第67-69页 |
| ·温度影响烧结机理 | 第67-68页 |
| ·La_2O_3掺杂机理 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 新型掺杂Pr_2O_3二氧化锡电极的探索研究 | 第70-76页 |
| ·实验 | 第70页 |
| ·测试与分析 | 第70-75页 |
| ·掺杂不同含量Pr_2O_3SEM测试分析 | 第71-72页 |
| ·掺杂不同含量Pr_2O_3EDS分析和场发射扫描电镜 | 第72-75页 |
| ·掺杂不同含量Pr_2O_3的电阻率和体积密度分析 | 第75页 |
| ·结论 | 第75-76页 |
| 第六章 结论 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附录 | 第85页 |
