| 摘要 | 第3-5页 |
| Absbact | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 短波通滤光片选材及设计 | 第10-11页 |
| 1.2.2 薄膜内部因素对激光损伤阈值的影响 | 第11-12页 |
| 1.2.3 后续处理工艺对激光损伤阈值的影响 | 第12-13页 |
| 1.3 主要工作 | 第13-15页 |
| 1.3.1 主要研究内容 | 第13-14页 |
| 1.3.2 研究流程 | 第14-15页 |
| 1.4 小结 | 第15-16页 |
| 2 光学薄膜的激光损伤机理 | 第16-27页 |
| 2.1 光学薄膜的激光损伤模型 | 第16-19页 |
| 2.1.1 本征吸收及热损伤 | 第16-17页 |
| 2.1.2 缺陷吸收 | 第17-18页 |
| 2.1.3 热应力损伤 | 第18页 |
| 2.1.4 电子崩离化 | 第18-19页 |
| 2.1.5 多光子电离 | 第19页 |
| 2.2 影响薄膜激光损伤阈值的主要因素 | 第19-23页 |
| 2.2.1 激光因素 | 第19-21页 |
| 2.2.2 薄膜因素 | 第21-22页 |
| 2.2.3 薄膜的制备技术及工艺参数 | 第22-23页 |
| 2.3 提高薄膜激光损伤阈值的途径 | 第23-25页 |
| 2.3.1 材料甄选和工艺优化 | 第23页 |
| 2.3.2 驻波场和温度场的设计 | 第23-24页 |
| 2.3.3 激光预处理 | 第24页 |
| 2.3.4 高温退火技术 | 第24-25页 |
| 2.4 激光损伤测试 | 第25-26页 |
| 2.5 小结 | 第26-27页 |
| 3 单层膜的工艺研究 | 第27-41页 |
| 3.1 高折射率材料的选取及最优工艺的确定 | 第27-35页 |
| 3.1.1 高折射率材料的选取 | 第27-29页 |
| 3.1.2 单层膜工艺的正交实验优化 | 第29-31页 |
| 3.1.3 沉积温度对薄膜激光损伤阈值的影响 | 第31-33页 |
| 3.1.4 工艺稳定性研究 | 第33-35页 |
| 3.2 低折射率材料的选取及最优工艺的确定 | 第35-38页 |
| 3.2.1 低折射率材料的选取 | 第35-36页 |
| 3.2.2 低折射率材料单层膜的设计 | 第36-37页 |
| 3.2.3 低折射率材料的工艺优化 | 第37-38页 |
| 3.3 薄膜的光学带隙 | 第38-39页 |
| 3.4 小结 | 第39-41页 |
| 4 滤光片的设计与制备 | 第41-53页 |
| 4.1 滤光片的膜系设计 | 第41-48页 |
| 4.1.1 多层膜膜系初始设计 | 第41-44页 |
| 4.1.2 多层膜电场场强优化设计 | 第44-48页 |
| 4.2 多层膜的制备 | 第48-51页 |
| 4.2.1 制备流程 | 第48-49页 |
| 4.2.2 制备结果 | 第49-51页 |
| 4.3 不同膜料制备滤光片的性能比对 | 第51-52页 |
| 4.3.1 Ta_2O_5/SiO_2多层膜的设计与制备 | 第51-52页 |
| 4.3.2 两组多层膜的光谱特性和激光损伤特性分析 | 第52页 |
| 4.4 小结 | 第52-53页 |
| 5 后续工艺处理对多层膜激光损伤阈值的影响 | 第53-59页 |
| 5.1 激光辐照预处理 | 第53-56页 |
| 5.1.1 不同辐照能量的影响 | 第53-55页 |
| 5.1.2 不同辐照次数的影响 | 第55-56页 |
| 5.2 电子束辐照处理 | 第56-58页 |
| 5.3 小结 | 第58-59页 |
| 6 结论 | 第59-61页 |
| 6.1 结论 | 第59-60页 |
| 6.2 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |